電鍍廢水處理設備
申請人· 黃昱誠 臺南市安平區育平九街192巷6號 TW; 王銘良 臺南市安平工業區新仁路17號 TW


專利信息

專利名稱 電鍍廢水處理設備
公告號 M436675
公告日 2012/09/01
證書號 M436675
申請號 2012/04/05
國際專利分類號
公報卷期 39-25
發明人 黃昱誠; 王銘良
申請人 黃昱誠 臺南市安平區育平九街192巷6號 TW; 王銘良 臺南市安平工業區新仁路17號 TW
代理人 邱南英
優先權
參考文獻
審查人員

專利摘要

電鍍廢水處理設備簡圖

本創作之電鍍廢水處理設備,至少包含:一般電鍍廢水設備,設有鹼化槽,以收集電鍍廢水,前述鹼化槽,並以管路分別與氧化劑電解槽及鹼液儲存槽連接,前述鹼化槽之後端設鹼化沉澱槽,以為經中和後的重金屬成份得以沉澱降解,之後再將電解廢水輸送到一般電解槽中,進行電解吸附處理後,再輸送到深度電解槽,將作深度的電解吸附後,再輸送到沉澱槽沉澱適當時間後,再輸送到過濾槽以過濾水中不帶電的微小離子顆粒,經過濾後之水即可放入淨水儲存槽中淨化再利用或排放;鉻酸電鍍廢水設備,設鉻酸電解槽,以集中鉻酸電鍍廢水,經適當的電解時間再輸送至鉻酸沉澱槽,進行沉澱降解中和後的鉻重金屬,之後再輸送至深度電解槽作深度的電解吸附處理後,再輸送到沉澱槽經適當的沉澱後,將水抽送到過濾槽,經過濾後的水再放入淨水儲存槽作淨水回用或排放;氰化物電鍍廢水設備,設破氰槽,得將氰化物電鍍廢水抽水至破氰槽,加入適當比例的氧化劑,經適當的降解時間後,再輸送到氰化物電解槽作電解吸附處理,之後,再輸送到鹼液儲存槽作備用,以配合一般電鍍廢水處理抽至鹼化槽使用。


專利範圍

1.一種電鍍廢水處理設備,至少包含:一般電鍍廢水設備,設鹼化槽,以收集電鍍廢水,前述鹼化槽並以管路分別與氧化劑電解槽及鹼液儲存槽連接,前述鹼化槽之後端設鹼化沉澱槽,以為經中和後的重金屬成份得以沉澱降解,之後,再將電解廢水輸送到一般電解槽中,進行電解吸附處理後,再輸送到深度電解槽,將作深度的電解吸附後,再輸送到沉澱槽沉澱適當時間後,再輸送到過濾槽以過濾水中不帶電的微小離子顆粒,經過濾後之水即可放入淨水儲存槽中淨化再利用或排放;鉻酸電鍍廢水設備,設鉻酸電解槽,以集中鉻酸電鍍廢水,經適當的電解時間再輸送至鉻酸沉澱槽,進行沉澱降解中和後的鉻重金屬之後,再輸送至深度電解槽作深度的電解吸附處理後,再輸送到沉澱槽經適當的沉澱後,將水抽送到過濾槽,經過濾後的水再放入淨水儲存槽作淨水回用或排放;氰化物電鍍廢水設備,設破氰槽,得將氰化物電鍍廢水抽水至破氰槽,加入適當比例的氧化劑,經適當的降解時間後,再輸送到氰化物電解槽作電解吸附處理,之後,再輸送到鹼液儲存槽作備用,以配合一般電鍍廢水處理抽至鹼化槽使用。
2.依申請專利範圍第1項所述之電鍍廢水處理設備,其中一般電鍍廢水設備得於鹼化槽中加入適量的氧化劑與鹼液,以中和鹼化槽中的電鍍廢水在PH值為8-9之間,且經攪拌中和均勻。
3.依申請專利範圍第1項所述之電鍍廢水處理設備,其中一般電鍍廢水設備之一般電解槽得為單一或複數。
4.依申請專利範圍第1項所述之電鍍廢水處理設備,其中一般電鍍廢水設備與鉻酸電鍍廢水設備得共用深度電解槽、沉澱槽、過濾槽及淨水儲存槽。
5.依申請專利範圍第1項所述之電鍍廢水處理設備,其中氰化物電鍍廢水設備將氰化物電鍍廢水作電解吸附處理後,得鹼液輸送到鹼液儲存槽以配合一般電鍍廢水設備的利用。


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