用以控制一微影裝置之方法及裝置 METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING A LITHOGRAPHIC APPARATUS
申請人· ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V. 荷蘭 NL


專利信息

專利名稱 用以控制一微影裝置之方法及裝置
公告號 201142534
公告日
證書號
申請號 2011/02/10
國際專利分類號
公報卷期 09-23
發明人 曼徹奇可夫 伯瑞斯 MENCHTCHIKOV, BORIS; 帕迪 亞歷山卓 PADIY, ALEXANDER
申請人 ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V. 荷蘭 NL
代理人 陳長文
優先權 美國 61/306,111 20100219
參考文獻
審查人員

專利摘要

使用一掃描器對一基板執行一微影曝光程序。該掃描器包含若干子系統。在曝光期間存在起因於該等子系統之疊對誤差。使用一散射計來量測該等疊對誤差以獲得疊對量測。執行模型化以自該等疊對量測分離地判定不同經估計模型參數(例如,場失真模型參數、掃描/步進方向模型參數,及位置/變形模型參數)子集。每一子集係與起因於微影裝置之一對應特定子系統的疊對誤差相關。最後,藉由控制該掃描器之一特定子系統而在該掃描器中控制該曝光,該控制該掃描器之一特定子系統係使用其對應經估計模型參數子集而進行。此情形導致在一受良好控制之疊對的情況下曝光一產品晶圓。


專利範圍

1.一種控制一微影裝置之方法,該方法包含以下步驟:使用該微影裝置對一基板執行一微影程序;量測起因於該微影程序之一基板屬性以獲得基板屬性量測;自該等基板屬性量測分離地判定該微影裝置之複數個經估計模型參數子集,其中每一子集係與起因於該微影裝置之一對應特定子系統的該基板屬性之誤差相關;及藉由控制該微影裝置之一特定子系統來控制藉由該微影裝置之微影處理,該控制該微影裝置之一特定子系統係使用該受控特定子系統之對應經估計模型參數子集而進行。 2.如請求項1之方法,其中該複數個經估計模型參數子集中之至少一者包含與起因於該微影裝置之一對應定位子系統的該基板屬性之定位誤差相關的參數。 3.如請求項1或2之方法,其中該複數個經估計模型參數子集中之至少一者包含與起因於該微影裝置之一對應機械或熱子系統的該基板屬性之基板變形誤差相關的參數。 4.一種用於控制藉由用以對一基板執行一微影程序之一微影裝置之微影處理的裝置,該裝置包含:一檢測裝置,該檢測裝置用於量測起因於該微影程序之一基板屬性以獲得基板屬性量測;及一處理器,該處理器經組態以:自該等基板屬性量測分離地判定該微影裝置之複數個經估計模型參數子集,其中每一子集係與起因於該微影裝置之一對應特定子系統的該基板屬性之誤差相關;且藉由控制該微影裝置之一特定子系統來控制藉由該微影裝置之微影處理,該控制該微影裝置之一特定子系統係使用該受控特定子系統之對應經估計模型參數子集而進行。 5.如請求項4之裝置,其中該複數個經估計模型參數子集中之至少一者包含與起因於該微影裝置之一對應定位子系統的該基板屬性之定位誤差相關的參數。 6.如請求項4或5之裝置,其中該複數個經估計模型參數子集中之至少一者包含與起因於該微影裝置之一對應機械或熱子系統的該基板屬性之基板變形誤差相關的參數。 7.一種電腦程式產品,該電腦程式產品含有用於控制藉由用以對一基板執行一微影程序之一微影裝置之微影處理之機器可讀指令的一或多個序列,該等指令經調適以使一或多個處理器:接收起因於該微影程序之基板屬性量測;自該等基板屬性量測分離地判定該微影裝置之複數個經估計模型參數子集,其中每一子集係與起因於該微影裝置之一對應特定子系統的該基板屬性之誤差相關;且藉由控制該微影裝置之一特定子系統來控制藉由該微影裝置之微影處理,該控制該微影裝置之一特定子系統係使用該受控特定子系統之對應經估計模型參數子集而進行。 8.


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專利資訊及圖示來源: 中華民國專利資訊檢索系統