陶瓷生成方法及裝置 METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING CERAMICS
申請人· 德田美幸 TOKUDA, YOSHIYUKI 日本 伊藤英雄 ITOH, HIDEO 日本


專利信息

專利名稱 陶瓷生成方法及裝置
公告號 200537056
公告日
證書號
申請號 2004/05/13
國際專利分類號
公報卷期 03-22
發明人 德田美幸 TOKUDA, YOSHIYUKI;伊藤英雄 ITOH, HIDEO
申請人 德田美幸 TOKUDA, YOSHIYUKI 日本 伊藤英雄 ITOH, HIDEO 日本
代理人 蔡坤財
優先權
參考文獻
審查人員

專利摘要

陶瓷生成方法及裝置簡圖

所提供者為一種利用有機物熱分解裝置來生成陶瓷(ceramics)之方法及裝置。該方法具備有熱分解含有微量無機成分之原料有機物之步驟、和處理該熱分解步驟所發生氣體之處理步驟,該熱分解步驟具備有將前述原料有機物分解成為含有前述無機成分之碳化物和氣體成分之分解步驟;和對前述分離之碳化物送入多量之電子、在保持前述反應槽內為還原環境之同時、將前述碳化物氣體化並將前述無機物從前述碳化物分離之步驟;和將前述分離之無機成分與氧成分(和前述電子一同送入)反應形成氧化物之步驟。


專利範圍

1.一種陶瓷生成方法,其特徵為,其至少含:具備有熱分解含有微量無機成分之原料有機物之步驟,和處理該熱分解步驟所發生氣體之處理步驟,該熱分解步驟具備有將前述原料有機物分解成為含有前述無機成分之碳化物和氣體成分之分解步驟;和對前述分離之碳化物送入多量之電子,在保持前述反應槽內為還原環境之同時,將前述碳化物氣體化並將前述無機物從前述碳化物分離之步驟;和將前述分離之無機成分與氧成分反應形成氧化物之步驟。
2.如申請專利範圍第1項所述之陶瓷生成方法,其中前述之原料有機物係產業廢棄物。
3.如申請專利範圍第1項或第2項所述之陶瓷生成方法,其中前述之熱分解步驟具備有對前述反應槽內加熱之加熱步驟。
4.如申請專利範圍第1項或第2項所述之陶瓷生成方法,其中前述之原料有機物係至少含有3000卡路里/g之熱量。
5.如申請專利範圍第1項所述之陶瓷生成方法,其中前述之氣體處理步驟係具備有將從前述反應槽所排出氣體冷卻、液化及收集該液化物之步驟。
6.如申請專利範圍第1項或第5項所述之陶瓷生成方法,其中前述之氣體處理步驟係具備有對從前述反應槽所排出氣體送入電子之還原步驟。
7.如申請專利範圍第6所述之陶瓷生成方法,其中前述之氣體處理步驟更具備有將大部份有電子送入之氣體重返前述反應槽進行加熱之步驟。
8.如申請專利範圍第1項或第5項所述之陶瓷生成方法,其中前述之氣體處理步驟具備將前述氣體或其液化物投入含有活性氧處理水來進行氧化分解之步驟。
9.一種陶瓷生成裝置,其特徵為,具備有熱分解反應槽,其具備有材料投入口和陶瓷取出口;和對前述在熱分解反應槽內所發生之碳化物送入電子之構件;和收集前述在熱分解反應槽內所產生排氣之排氣收集構件。
10.如申請專利範圍第9項所述之陶瓷生成裝置,其中具備有提高前述熱分反應槽內溫度之加熱構件。
11.如申請專利範圍第9項所述之陶瓷生成裝置,其中前述加熱構件係電加熱器或是使熱風循環之熱交換管。
12.如申請專利範圍第9項所述之陶瓷生成裝置,其中具備有在對熱分解反應槽內生成碳化物送入前述大量電子之同時,亦送入微量氧成分之氧供給構件。
13.如申請專利範圍第9項至第12項中任一項所述之陶瓷生成裝置,其中前述排氣收集構件具備有冷卻、液化前述氣體之構成。
14.如申請專利範圍第9項所述之陶瓷生成裝置,其中具備有對使用前述排氣收集構件所收集之排氣送入電子之第2電子供給構件。
15.如申請專利範圍第14項所述之陶瓷生成裝置,其中具備有可將大部分前述有電子送入之排氣,再送回前述熱分解反應槽中之構成。
16.如申請專利範圍第9項所述之陶瓷生成裝置,其中具備有將使用前述排氣收集手段所收集到的排氣,送入處理槽(裝有含活性氧之水)之構件。
17.如申請專利範圍第16項所述之陶瓷生成裝置,其中具備具備有活性氧製造構件、和將使用該構件所製成活性氧送入前述處理槽內水中之構件。
18.如申請專利範圍第17項所述之陶瓷生成裝置,其中前述活性氧製造構件,係臭氧發生裝置或是水之電分解裝置。
19.如申請專利範圍第16項所述之陶瓷生成裝置,其中具備有使前述處理槽中的水成為還原狀態之構件。
20.如申請專利範圍第19項所述之陶瓷生成裝置,其中使前述處理槽中的水成為還原狀態之構件,係具備有電子(e - )發生裝置或是在前述處理槽中投入還原劑之構件。
21.一種陶瓷,其特徵為,採用前述申請專利範圍第1項所述之陶瓷生成方法所生成。
22.一種木醋酸,其特徵為,採用前述申請專利範圍第5項所述之陶瓷生成方法所生成。


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