利用二氧化矽-二氧化鈦溶膠以進行鍍膜之方法 METHOD OF DIP-COATING THIN FILM BY USING SILICA-TITANIA SOL
申請人· 京程科技股份有限公司 JM MATERIAL TECHNOLOGY INC. 桃園市龜山區民生北路1段40之2號5樓之3 TW


專利信息

專利名稱 利用二氧化矽-二氧化鈦溶膠以進行鍍膜之方法
公告號 I529000
公告日 2016/04/11
證書號 I529000
申請號 2012/11/06
國際專利分類號
公報卷期 43-11
發明人 陳郁文 CHEN, YU WEN
申請人 京程科技股份有限公司 JM MATERIAL TECHNOLOGY INC. 桃園市龜山區民生北路1段40之2號5樓之3 TW
代理人 謝佩玲; 王耀華
優先權
參考文獻 TW200604103A; C. H. Huang, H. L. Bai, Y. L. Huang, S. L. Liu, S. I. Yen, Y. H. Tseng,Synthesis of Neutral SiO&2/TiO&2 Hydrosol and Its Application as Antireflective Self-Cleaning Thin Film,International Journal of Photoenergy,ID620764,February,27,2012。
審查人員 黃振東

專利摘要

本發明揭示一種製造二氧化矽-二氧化鈦溶膠的方法,可用於作為塗佈於玻璃上的塗料,本發明並揭示其在去汙、自潔、超親水性及抗反射上的應用。本發明揭示以四氯化鈦為原料,先將四氯化鈦在冰浴中加入鹽酸水溶液,再加入氨水鹼性溶液製成氫氧化鈦,經過多次離心、水洗後,完全去除氯離子,再加入二氧化矽水溶膠和雙氧水,此時二氧化鈦的固體重量與水的比例為0.01%至1.5%,二氧化矽與二氧化鈦的重量比為0.5比1至4比1之間;雙氧水與鈦的莫耳比為2比1至5比1之間;此溶液在70至100℃間,煮一段時間後,即可形成穩定透明的二氧化矽-二氧化鈦溶膠,其係奈米級固體粒懸浮在水中,且水溶液為中性,其可浸鍍在玻璃載體上,此透明的二氧化矽-二氧化鈦薄膜在玻璃載體上可用噴鍍或浸鍍方法達成,二氧化矽可以增加薄膜厚度並增加其透光率,二氧化鈦可以破壞於玻璃上的汙垢,因此可以於長時間的使用後增加其透光率,此二氧化矽-二氧化鈦薄膜在玻璃上具有強的去汙、自潔、超親水性及抗反射的功效。


專利範圍

1.一種利用二氧化矽-二氧化鈦溶膠以進行鍍膜之方法,其中二氧化矽-二氧化鈦溶膠之製備步驟包含:以四氯化鈦,在0~5℃下加入鹽酸水溶液,形成溶液,再加入氨水溶液,使其形成氫氧化鈦膠體,其pH值在8到12的範圍;加入二氧化矽水溶膠與雙氧水,形成一水溶液,此時二氧化鈦的固體重量與水的比例為0.01%至2%,雙氧水與鈦的莫耳比為2比1至5比1之間;此溶液再在70至100℃的範圍內加熱,直到膠體完全水解消失,即可形成穩定透明的二氧化矽-二氧化鈦溶膠,其係奈米級固體粒懸浮在水中,且水溶液為中性,以及浸漬鍍膜之步驟為:將覆膜液置於拉昇機台上;將玻璃基材固定於拉昇機上;將玻璃基材浸入覆膜液中,下降速率為5~10cm/min;開始拉昇覆膜,上昇速率為5~10cm/min;將玻璃置於烘箱中,於100℃下乾燥1小時,即完成一次覆膜工作;製作多層覆膜時,須重複上述各項步驟2至6次。 2.如申請專利範圍第1項之利用二氧化矽-二氧化鈦溶膠以進行鍍膜之方法,該覆膜使該玻璃基材具有自潔、去污、超親水性與抗反射的功效。


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專利資訊及圖示來源: 中華民國專利資訊檢索系統