金蝕刻液



  • 銀合金蝕刻液

    公告號:I282813 - 錸寶科技股份有限公司 新竹縣竹北市仁義路65號

    1.一種銀合金用蝕刻液,係包含: (A)10至60重量份之磷酸; (B)1至60重量份之硝酸; (C)0至70重量份之醋酸;以及 (D)0至90重量份之水。 2.如專利申請範圍第1項所述之蝕刻液,其包含20至50重量份之磷酸銨化物;40至70重量份之醋酸;以及1至20重量份之硝酸。 3.如專利申請範

  • 銀合金蝕刻液

    公告號:574732 - 錸寶科技股份有限公司 RITDISPLAY CORPORATION 新竹縣湖口鄉新竹工業區光復北路十二號

    1.一種銀合金用蝕刻液組合物,係包含: (A)10至30重量份之硝酸; (B)0.5至5重量份之硝酸鹽;以及 (C)65至88.5重量份之水。 2.如申請專利範圍第1項所述之蝕刻液組合物,其中該硝酸鹽為硝酸鐵。 3.一種銀合金之蝕刻方法,包含以下之步驟: (A)提供一具銀合金表面之基板;以及 (B)

  • 鉬鈮合金蝕刻液

    公告號:201309851 - 銓科光電材料股份有限公司 OPETECH MATERIALS CO., LTD. 新竹市延平路2段727巷16號 TW

    1.一種鉬鈮合金蝕刻液,其成分包含有:磷酸或硫酸,其重量百分比為40~99.5;硝酸根離子,其係由一硝酸化合物解離而得,該硝酸化合物之重量百分比為0.5~30;醋酸根離子,其係由一醋酸化合物解離而得,該醋酸化合物之重量百分比為0.0~30;以及其餘為水。 2.如請求項1所述之鉬鈮合金蝕刻液,其係用於

  • 銅/鉬膜或銅/鉬合金膜的蝕刻液組合物

    公告號:I526576 - 易安愛富科技有限公司 ENF TECHNOLOGY CO., LTD. 南韓 KR

    1.一種銅/鉬膜或銅/鉬合金膜的蝕刻液組合物,其特徵在於,對於組合物的總重量,包含:5至40%重量的過氧化氫,0.1至5%重量的蝕刻抑制劑,0.1至5%重量的螯合劑,0.01至2%重量的氟化物,0.01至2%重量的雙氧水穩定劑,0.1至5%重量的無機溴化合物及餘量的水且使全部組合物的總重量為100%

  • 含銅及鈦之金屬層用蝕刻液組成物(4)

    公告號:I522495 - 東友精細化工有限公司 DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD. 南韓 KR

    1.一種含銅及鈦之金屬層用蝕刻液組成物,以該組成物總重為基準,包括:5至20wt%過硫酸鹽;0.01至2wt%氟化合物;1至10wt%選自於無機酸、無機酸鹽、及其混合物中之一者或多者;0.3至5wt%選自於由5-胺基四唑、甲苯基三唑、苯并三唑、及甲基苯并三唑所組成之群組之環狀胺化合物;1至10wt%

  • 含銅及鈦之金屬層用蝕刻液組成物(2)

    公告號:I510675 - 東友精細化工有限公司 DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD. 南韓 KR

    1.一種含銅及鈦之金屬層用蝕刻液組成物,其以該組成物總重為基準,係包括:5至20wt%過硫酸鹽;0.01至2wt%氟化合物;1至10wt%選自無機酸、無機酸鹽、及其混合物中之一者或多者;0.3至5wt%環狀胺化合物;0.1至5wt%氯化合物;0.1至5wt%對甲苯磺酸;及剩餘為水,其中該環狀胺化合物

  • 銅/鉬膜或銅/鉬合金膜的蝕刻液組合物

    公告號:I493020 - 易安愛富科技有限公司 ENF TECHNOLOGY CO., LTD. 南韓 KR

    1.一種銅/鉬膜或銅/鉬合金膜的蝕刻液組合物,其特徵在於,對於組合物的總重量,包含:5至40%重量的過氧化氫,0.1至5%重量的蝕刻抑制劑,0.1至5%重量的螯合劑,0.1至5%重量的蝕刻添加劑,0.01至2%重量的氟化物,0.01至2%重量的蝕刻穩定劑及餘量的水且使全部組合物的總重量為100%重量

  • 銅或銅合金用之蝕刻液,蝕刻方法及蝕刻液之再生管理方法

    公告號:I486488 - 三菱製紙股份有限公司 MITSUBISHI PAPER MILLS LIMITED 日本 JP

    1.一種銅或銅合金用之蝕刻液,其特徵為以水當作主成分,含有(1)5~20質量%的氯化鐵(III)、(2)0.5~3質量%的氯化銅(II)、(3)相對於氯化鐵(III)而言5~20質量%的與銅形成不溶性的鹽之化合物所成。2.如申請專利範圍第1項之銅或銅合金用之蝕刻液,其中與銅形成不溶性的鹽之化合物

  • 鈦系金屬、鎢系金屬、鈦鎢系金屬或此等之氮化物的蝕刻液

    公告號:I460310 - 昭和電工股份有限公司 SHOWA DENKO K. K. 日本 JP

    1.一種鈦系金屬、鎢系金屬、鈦鎢系金屬或該等之氮化物的蝕刻液,其特徵為包含10~40質量%之過氧化氫、0.1~5質量%之有機酸鹽及水,其中有機酸鹽為選自檸檬酸三銨、甲酸銨、草酸銨、酒石酸銨、苯甲酸銨、琥珀酸銨、檸檬酸氫二銨、檸檬酸三鉀、檸檬酸三鈉、草酸鈉、苯甲酸鉀、苯甲酸鈉之至少一種。2.一種鈦

  • 銅或銅合金用之蝕刻液,蝕刻前處理液及蝕刻方法

    公告號:I452173 - 三菱製紙股份有限公司 MITSUBISHI PAPER MILLS LIMITED 日本 JP

    1.一種銅或銅合金用之蝕刻液,其係藉由減成法製造印刷電路板用的蝕刻液,其特徵為以水為主成份,由(1)1~20質量%之氯化鐵(III)及(2)相對於氯化鐵為5~100質量%之草酸所構成者。2.一種銅或銅合金用之蝕刻前處理液,其係使用如申請專利範圍第1項之銅或銅合金用之蝕刻前,將被蝕刻材進行前處理用

  • 用於具有鈦及鋁層之金屬層積膜的蝕刻液組成物

    公告號:I444488 - 關東化學股份有限公司 KANTO KAGAKU KABUSHIKI KAISHA 日本 JP

    1.一種用以對作為基底的基板不造成不良影響而總括地將金屬層積膜蝕刻為錐狀且蝕刻後的錐形角度(taper angle)為30~90度的蝕刻液組成物,該金屬層積膜係形成於液晶顯示器用玻璃基板、半導體裝置用矽基板或是化合物半導體基板上,且含有鈦或以鈦作為主成分之合金所構成的層、及鋁或以鋁作為主成分之合金所

  • 鈦、鋁金屬層積膜之蝕刻液組成物

    公告號:I405875 - 關東化學股份有限公司 KANTO KAGAKU KABUSHIKI KAISHA 日本 JP

    1.一種蝕刻液組成物,係用以總括地蝕刻金屬層積膜,該金屬層積膜含有由鈦或以鈦作為主成分之合金所構成的層、及由鋁或以鋁作為主成分之合金所構成的層,該蝕刻液組成物只有使用氟化合物、氧化劑及水來作為構成原料而成,該氟化合物為選自由氫氟酸的金屬鹽或銨鹽、六氟矽酸、六氟矽酸的金屬鹽或銨鹽、四氟硼酸及四氟硼酸的

  • 含碘之金蝕刻廢液之處理方法及其處理裝置

    公告號:I405854 - 欣偉科技股份有限公司 新北市中和區民享街89巷4弄16號 TW

    1.一種含碘之金蝕刻廢液之處理方法,係包含:加入一氧化劑至一含碘之金蝕刻廢液進行反應,得到一反應液;加熱該反應液,產生一氣體及一沉澱物,其中該氣體含有碘分子,該沉澱物為固態金,其中該氧化劑為硫酸、硝酸、亞硫酸鈉或亞硫酸鉀,且,該氧化劑與該含碘化鉀之金蝕刻液之比例係介於0.5:1與3:1之間;並冷卻分

  • 液晶顯示器系統中之銅(Cu)、銅(Cu)/鉬(Mo)或銅(Cu)/鉬(Mo)合金電極蝕刻液體

    公告號:I404825 - 韓國泰科諾賽美材料股份有限公司 TECHNO SEMICHEM CO., LTD. 南韓 KR

    1.一種用於銅層、銅/鉬層、或銅/鉬合金層之蝕刻溶液,包含以該蝕刻溶液之總重量計,12至35重量%之過氧化氫、0.5至5重量%之硫酸鹽、0.5至5重量%之磷酸鹽、0.0001至0.5重量%之提供氟離子之氟化物、0.1至5重量%之螫合劑、0.1至5重量%之第一水溶性環胺、0.1至5重量%之第二水溶性環

  • 金屬選擇性蝕刻液

    公告號:I392770 - 關東化學股份有限公司 KANTO KAGAKU KABUSHIKI KAISHA 日本 JP

    1.一種金屬選擇性蝕刻液,其係用於由貴金屬與賤金屬同時存在的半導體材料,將貴金屬加以蝕刻之碘系蝕刻液,該蝕刻液是由一種或兩種以上之含有氮原子的有機化合物及/或一種或兩種以上之無機酸(但是鹵化氫酸除外)之銨鹽所構成,該無機酸(但是鹵化氫酸除外)之銨鹽可解離出一種或兩種以上的離子,該蝕刻液之貴金屬與賤金