芳香除臭化學品



  • 芳香除臭劑用容器之製造方法及裝置

    公告號:029569 - 大日本印刷股份有限公司 日本國東京都新宿區巿谷加賀町1丁目12番地

  • 芳香除臭劑用容器

    公告號:039695 - 大日本印刷股份有限公司 臺北巿南京東路2段11號6F

    一種芳香性消臭削容器,令復數有窗形切右(2 4﹒)之壁板(20),與具有充填口(16﹒ )之底板(18),在壁板(20)頂部結合, 而由至少紙,鋁箔,及合成樹脂層三層構成之坯 料(22),其端緣部之相互合成樹脂層,以射 出成形合成樹脂予以加熱接,而形成容器狀, 再於具有前述窗形切口(24﹒)之合成

  • 液體芳香除臭劑容器

    公告號:068167 - 維爾爽股份有限公司 日本

    如附圖所示液體芳香除臭劑容器 之形狀。

  • 一種具芳香、除臭之方向盤套結構改良

    公告號:326191 - 劉振明 南投縣草屯鎮富昌路富裕巷二十五號

    1.一種具芳香、除臭之方向盤套結構改良,其大體包含: 方向盤套與容置盒所構成;係於方向盤套周緣上環設數嵌 設孔,該嵌設孔上則固設有容置盒;其中,該容置盒,係 一硬質盒體左、右側邊上對應設有螺孔,其硬質盒體上方 外緣環設有一體之軟質片體;藉由該軟質片體得以車縫固 設於嵌設孔之內側,使硬質盒體與方向盤套

  • 抗脫色性及分散性優之除臭化妝品組成物

    公告號:333455 - 品川燃料股份有限公司 日本

    1.一種抗脫色性和分散性優之除臭化妝品組成物,該組成 物包含:(i)一具下式的抗菌性沸石:XM2/nO‧Al2O3‧ YSiO2‧ZH2O其中M代表一種離子可交換的離子,全部或部 份的該離子可交換的離子被銨離子和至少一選自以下族群 的抗菌性金屬離子所取代,該族群係由銀、銅、鋅、汞、 錫、鉛、鉍、鎘、

  • 芳香、除臭劑用容器

    公告號:D108384 - 小林製藥股份有限公司 KOBAYASHI PHARMACEUTICAL CO., LTD. 日本

    後視圖與前視圖相對稱,故省略後視圖。

  • 小便斗清潔防污芳香除臭劑釋放裝置

    公告號:M345090 - 許錦洋 臺中縣神岡鄉民族路92巷53之1號

    1.一種小便斗清潔防污芳香除臭劑釋放裝置,包含有: 一設置件以及一結合件,彼此相結合而於內部形成一容置空間; 該設置件,具有一直立板以及位於該直立板上方且向外傾斜的一導流板,以及複數第一分流板垂直設置於該直立板以及該導流板且彼此相隔預定距離; 該結合件,具有一外板以及由該外板下方向下且向內弧狀彎曲之

  • 小便斗清潔防污芳香除臭劑釋放裝置

    公告號:M371140 - 許錦洋 臺中縣神岡鄉民族路92巷53之1號 TW

    1.一種小便斗清潔防污芳香除臭劑釋放裝置,包含有:一設置件、一結合件以及一固定件,該設置件與該結合件彼此相結合而於內部形成一容置空間;該設置件,具有一直立板,該直立板穿設有一通孔,該直立板於該通孔周緣設有兩相對槽孔,且該等槽孔係與該通孔相連通,該直立板背面相對於該通孔周緣設有推頂塊;該結合件,具有一

  • 芳香除霧化妝鏡

    公告號:M414881 - 郁弘股份有限公司 新北市鶯歌區中正二路67號 TW

    1.一種芳香除霧化妝鏡,其包括:一具有至少一出風口(2)的殼體(1);一設於殼體(1)前端的鏡面(3);一與鏡面(3)後側結合,且具有除霧功能的軟性電熱板(4);一與軟性電熱板(4)電性連接,並可控制該軟性電熱板(4)的電路板(5);以及一與電路板(5)電性連接,並可控制除霧功能開啟及/或關閉的開關

  • 具芳香除臭效果之鞋底結構

    公告號:M508930 - 高博士國際有限公司 新北市板橋區民權路240號 TW

    1.一種具芳香除臭效果之鞋底結構,包含:鞋底,係包含腳掌部位及腳跟部位,於腳跟部位設有一槽狀之氣室,並於該氣室設有第一單向氣閥,使該第一單向氣閥突露於氣室的側邊,該腳跟部位與腳掌部位間,係設有第二單向氣閥;芳香單元,係固定腳跟部位之氣室的上緣,其包含一遮片及固定於遮片底緣之吸附件,於該遮片設有一透孔

  • 芳香除臭劑用容器

    公告號:D174561 - 小林製藥股份有限公司 KOBAYASHI PHARMACEUTICAL CO., LTD. 日本 JP

  • 芳香除臭劑用容器

    公告號:D174560 - 小林製藥股份有限公司 KOBAYASHI PHARMACEUTICAL CO., LTD. 日本 JP

  • 用於犧牲層之選擇性可移除化學品及其製造方法及用途

    公告號:200520078 - 哈尼威爾國際公司 HONEYWELL INTERNATIONAL INC. 美國

    1.一種蝕刻溶液,其包括:至少一種以氟為基礎之組分,至少一種酸組分;及溶劑組分,其中該蝕刻溶液自表面或層狀元件選擇性蝕刻至少一層犧牲層。 2.根據請求項1之蝕刻溶液,其中該至少一種以氟為基礎之組分包括氟化氫、以氟為基礎之鹽或其組合。 3.根據請求項2之蝕刻溶液,其中該氟化氫包括無水氟化氫或水性氟化氫

  • 聚亞芳香基硫化物樹脂組成物及其成型品

    公告號:200606199 - 寶理塑料股份有限公司 POLYPLASTICS CO., LTD. 日本 吳羽化學工業股份有限公司 KUREHA CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD. 日本

    1.一種聚亞芳香基硫化物樹脂組成物,包含:(A)100份重量比聚亞芳香基硫化物樹脂,其具有氮元素含量為每1千克樹脂0.55克或以下;以及(B)5至400份重量比無機填充劑。 2.如申請專利範圍第1項之聚亞芳香基硫化物樹脂組成物,其中該(A)聚亞芳香基硫化物樹脂或其部分為經由包含步驟(1)及步驟(2)

  • 使用改良化學品移除光阻用方法及設備

    公告號:201513189 - 東京威力科創奈克斯股份有限公司 TEL NEXX, INC. 美國 US

    1.一種自基板移除光阻膜的方法,該方法包含:         於一處理槽中製備一液態浴,該液態浴包括一掀離化學品,該掀離化學品與一給定光阻層流體接觸時,降低該給定光阻層對一給定表面的附著性;         於包含該掀離化學品的該液態浴中設置具有一光阻膜的一基板;         充分地物理性攪動該