基板處理裝置用氣化器之部分
申請人· 日立國際電氣股份有限公司 HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. 日本 JP


專利信息

專利名稱 基板處理裝置用氣化器之部分
公告號 D174926
公告日 2016/04/11
證書號 D174926
申請號 2015/08/24
國際專利分類號 15-99
公報卷期 43-11
發明人 原大介 HARA, DAISUKE; 立野秀人 TATENO, HIDETO
申請人 日立國際電氣股份有限公司 HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. 日本 JP
代理人 林志剛
優先權 日本 2015-006361 20150324
參考文獻 CN302669232S
審查人員 徐銘夆

專利摘要

【物品用途】 本設計的物品是基板處理裝置用氣化器,是在半導體製造裝置中,將液體原料氣化而生成用來處理被處理基板的處理氣體所用之氣化器。 【設計說明】 本物品具體來說,當從形成為「 」型的氣化管上部的液體原料導入口滴下液體原料時,在受到加熱的氣化管內部的表面被氣化。藉由氣化所產生的氣體,連同從設置於氣化管的一端的載體氣體導入口所導入的載體氣體,一起從設置於氣化管的另一端的排出口作為處理氣體被排出。所排出的處理氣體被供給到:載置於另外的反應容器內的處理基板。如「使用狀態的參考圖」所示,在液體原料導入口或載體氣體導入口、及處理氣體排出口安裝有夾具。 圖式所揭露之實線部分,為本案主張設計之部分,虛線部分為本案不主張設計之部分。


專利範圍


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專利資訊及圖示來源: 中華民國專利資訊檢索系統