CVD裝置用之玻璃樣碳組件及其製法 COMPONENT OF GLASS-LIKE CARBON FOR CVD APPARATUS AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF
申請人· 神戶製鋼所股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.) 日本


專利信息

專利名稱 CVD裝置用之玻璃樣碳組件及其製法
公告號 200407275
公告日
證書號
申請號 2003/08/01
國際專利分類號
公報卷期 02-10
發明人 濱口真基 HAMAGUCHI, MAKI
申請人 神戶製鋼所股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.) 日本
代理人 林志剛
優先權 日本 2002-229012 20020806 日本 2003-137820 20030515
參考文獻
審查人員

專利摘要

本發明揭示一種供CVD裝置使用之玻璃樣碳內管及其製造方法。該內管之表面經粗糙化,而不增加產生粒子之金屬雜質。其對CVD沉積膜之添加改善,且亦具有高度圓度。該表面粗糙度(內表面及外表面兩者)根據JISB0601測量係為0.1至10微米。表面中金屬雜質(鐵、銅、鉻、鈉、鉀、鈣、鎂、及鋁)之濃度低於50×10^10原子/厘米^2。


專利範圍

1.一種供CVD裝置使用之玻璃樣碳組件,其特徵為具有介於0.1至10微米範圍內之表面糙度值(R a )(根據JIS B0601測量),且表面中含有含量各低於5×10 10 原子/厘米 2 之鐵、銅、鉻、鈉、鉀、鈣、鎂、及鋁。 2.如申請專利範圍第1項之供CVD裝置使用的玻璃樣碳組件,其經表面處理,使得在放大1000倍之掃描式電子顯微鏡下觀察時,於50×50微米視野中有至少五個1至10微米直徑之坑洞。 3.如申請專利範圍第1項之供CVD裝置使用的玻璃樣碳組件,其經表面經處理使得在放大1000倍之掃描式電子顯微鏡下觀察時,於50×50微米視野中存有總長度至少50微米而寬度0.5至5微米之細長凹陷。 4.如申請專利範圍第1項之供CVD裝置使用的玻璃樣碳組件,係為供CVD裝置使用之內管、晶圓舟皿、晶架、及噴嘴中之任一種。 5.一種製造如申請專利範圍第1項之供CVD裝置使用的玻璃樣碳組件之方法,其包括下列步驟:自原料樹脂模製一物件,將形成之物件碳化,以產生玻璃樣碳之模製物件,將所模製之物件的表面粗糙化,及將玻璃樣碳之模製物件純化。 6.如申請專利範圍第5項之製造方法,其中將該模製物件之表面糙化係於該模製步驟與該碳化步驟之間的任何步驟進行。 7.如申請專利範圍第5項之製造方法,其中將該玻璃樣碳之模製物件純化係於該表面糙化處理之後的任何步驟進行。 8.如申請專利範圍第5項之製造方法,其中該表面糙化處理係為機械式。 9.如申請專利範圍第5項之製造方法,其中該表面糙化處理係為機械式與化學蝕刻式之組合方法,該兩處理係依序(依所示順序)或同時進行。 10.如申請專利範圍第8項之製造方法,其中該機械表面糙化處理係為噴砂或研磨。 11.如申請專利範圍第9項之製造方法,其中該化學蝕刻處理少為熱氧化或電解氧化。 12.如申請專利範圍第8項之製造方法,其中該供CVD裝置使用之玻璃樣碳組件係為內管,而該機械表面糙化處理係同時於該內管之內表面及外表面上進行。 13.如申請專利範圍第5項之製造方法,其中該純化步驟係為於含鹵素之氣體氛圍中於高溫下之熱處理。 14.一種製造如申請專利範圍第1項之供CVD裝置使用的玻璃樣碳組件之方法,該玻璃樣碳組件係為內管,該方法係包括下列步驟:將原料樹脂模製成管,於800至1300℃下加熱所形成之樹脂管,以將其轉化成玻璃樣碳管,且在該玻璃樣碳管外側套上圓度修正夾,而於高於1


類似專利

公告號 專利名稱 申請人
I249513 CVD裝置用之玻璃樣碳組件及其製法 神戶製鋼所股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.) 日本
200819867 液晶顯示裝置用之光擴散構件及液晶顯示裝置用之光擴散單元,以及其製造方法 三誠股份有限公司 SANSEI CO., LTD. 日本
200636969 供電容性微機電系統(MEMS)裝置用之低充電介電質及其製造方法 諾斯洛普格拉曼公司 NORTHROP GRUMMAN CORPORATION 美國
490858 液晶裝置用多晶薄膜電晶體及其製法 三星電子股份有限公司 韓國
439308 有機發光裝置用的包圍阻障材料及其製法 巴特爾紀念機構 美國
010912 經整飾之玻璃織品物料及其製法 卡羅連納狄幅織物公司 美國阿姆斯特丹李恩街57號
I295279 二相玻璃狀碳元件及其製造方法 神戶製鋼所股份有限公司 KOBE STEEL, LTD. 日本
200536807 二相玻璃狀碳元件及其製造方法 神戶製鋼所股份有限公司 KOBE STEEL, LTD. 日本
527194 血液過濾術之補充液與組件及其製法 信東化學工業股份有限公司 桃園縣桃園市介壽路二十二號
460975 處理裝置、供處理裝置用之真空排氣系統、減壓CVD裝置、供減壓CVD裝置用之真空排氣系統、及捕集裝置 東京威力科創股份有限公司 日本
I488541 用於製造白色有機電發光二極體面板之蒸鍍與鈍化用的遮罩框架組件及其製造方法和裝置 漢松股份有限公司 HANSONG CO., LTD. 南韓 KR
I267070 光學讀取裝置用之物鏡光學組件以及應用該物鏡光學組件之聚焦方法 財團法人工業技術研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE 新竹縣竹東鎮中興路4段195號
546266 真空紫外線光蝕刻使用之投射透鏡用矽玻璃光學材料及其製造方法以及投射透鏡 信越石英股份有限公司 日本
201539675 玻璃加工零件及其製造方法以及電子裝置及其製造方法 愛信精機股份有限公司 AISIN SEIKI KABUSHIKI KAISHA 日本 JP
201536411 蛋白質結晶裝置用之氣泡噴出構件及蛋白質吸附氣泡噴出構件、蛋白質結晶裝置及蛋白質結晶化方法、以及蛋白質結晶切削裝置及蛋白質結晶切削方法 獨立行政法人科學技術振興機構 JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY 日本 JP
201306651 用於製造白色有機電發光二極體面板之蒸鍍與鈍化用的遮罩框架組件及其製造方法和裝置 漢松股份有限公司 HANSONG CO., LTD. 南韓 KR
200623078 光學讀取裝置用之物鏡光學組件以及應用該物鏡光學組件之聚焦方法 財團法人工業技術研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE 新竹縣竹東鎮中興路4段195號
I393689 用於半導體製造的石英玻璃組件及其製法 信越石英股份有限公司 SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. 日本 JP; 赫里斯果斯克來斯有限兩合公司 HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO.KG
I329481 半導體裝置用多層印刷電路板及其製造方法 揖斐電股份有限公司 IBIDEN CO., LTD. 日本 JP

專利資訊及圖示來源: 中華民國專利資訊檢索系統