模具構造、轉印成形裝置、轉印成形方法、光學構件、面光源裝置、液晶顯示裝置及行動機器 MOLD STRUCTURE, TRANSFER FORMATION DEVICE AND TRANSFER FORMATION METHOD, OPTICAL MEMBER, SURFACE LI
申請人· 歐姆龍股份有限公司 OMRON CORPORATION 日本 JP


專利信息

專利名稱 模具構造、轉印成形裝置、轉印成形方法、光學構件、面光源裝置、液晶顯示裝置及行動機器
公告號 I529050
公告日 2016/04/11
證書號 I529050
申請號 2013/02/08
國際專利分類號
公報卷期 43-11
發明人 竹村宏一 TAKEMURA, KOICHI; 柴田智英 SHIBATA, TOMOFUSA; 山中義久 YAMANAKA, YOSHIHISA; 金子和孝 KANEKO, KAZUTAKA; 藤江讓 FUJIE, YUZURU; 橋本直樹 HASHIMOTO, NAOKI; 鈴木太一 SUZUKI, TAICHI; 小島正行 KOJIMA, MASAYUKI
申請人 歐姆龍股份有限公司 OMRON CORPORATION 日本 JP
代理人 丁國隆; 黃政誠
優先權 日本 2012-243980 20121105
參考文獻 TW200408851A; JP57-27311U; JP2010-171281A
審查人員 曾維國

專利摘要

提供一種可確實且迅速地除去轉印成形時產生之殘留空氣的模具構造等。為此,該模具構造具備:第一模具;第二模具,其與該第一模具能相對地接離;及轉印構件,其設於前述模具之至少任一者,且使轉印面抵接在供給於前述模具間之樹脂片上進行轉印成形。尤其是,作為該轉印構件的上模用轉印板20具有形成於該轉印面之凹部23、及接續於該凹部23的至少一個溝部27。


專利範圍

1.一種模具構造,其特徵為具備:第一模具;第二模具,其與該第一模具能相對地接離;及轉印構件,其設於前述模具之至少任一者,且使轉印面抵接在被供給至前述模具間之樹脂片以進行轉印成形,該轉印構件具有形成於該轉印面之凹部、及在成形經轉印成形後會除去的非成品部分之區域,以和該凹部連接的方式設置的至少一個溝部。 2.如申請專利範圍第1項之模具構造,其中該溝部具有與該凹部相同或大於該凹部之深度。 3.如申請專利範圍第1或2項之模具構造,其中該溝部係連接於該轉印構件之外部。 4.如申請專利範圍第1之模具構造,其中該溝部係以與形成於該轉印面之該凹部交叉的方式形成。 5.如申請專利範圍第1項之模具構造,其中該轉印構件具有以沿該凹部連接之方式所形成的輔助溝部,該溝部透過該輔助溝部與該凹部連接。 6.如申請專利範圍第1項之模具構造,其中該各溝部係具有自該凹部流出之熔融樹脂的壓力變得大致相同之末端變寬的流路截面積。 7.如申請專利範圍第1項之模具構造,其中該各溝部係配置於熔融樹脂之流速大致相同的位置。 8.一種轉印成形裝置,其特徵為具備如申請專利範圍第1至7項中任一項之模具構造。 9.一種轉印成形方法,其特徵為具備:插入製程,其將樹脂片插入對向配置之第一模具與第二模具之間;挾持製程,其於使轉印構件之轉印面抵接在該樹脂片的至少任一面上的狀態下將樹脂片挾持於前述兩個模具間;及轉印成形製程,其藉由加熱該模具之至少任一者,將該轉印構件之轉印面所抵接的該樹脂片之至少表面部熔融,於在形成於該轉印面之凹部形成厚壁部時,透過使熔融樹酯的一部份往連接於該凹部之成形非製品部分的溝部流出而經由該溝部排出殘留在該凹部內的殘留空氣。 10.如申請專利範圍第9項之轉印成形方法,其中該溝部具有與該凹部相同或大於該凹部之深度。 11.如申請專利範圍第9或10項之轉印成形方法,其中,在該轉印成形製程後,除去在該轉印構件溝部所成形之非成品部分。 12.一種光學構件,其特徵為以如申請專利範圍第9或11項之轉印成形方法所成形。 13.一種面光源裝置,其特徵為具備:如申請專利範圍第12項之光學構件;及光源,其配置於該光學構件之至少一個端面,將自該光源射入光學構件之光自該光學構件的光射出面射出。 14.一種液晶顯示裝置,其特徵為具備:如申請專利範圍第13項之面光源裝置;及液晶面板。 15.一種行動機器,其特徵為具備如申請專利範圍第13


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專利資訊及圖示來源: 中華民國專利資訊檢索系統