純化水(氣)流之方法及裝置
申請人· 伊蔻淨化系統有限公司 荷蘭


專利信息

專利名稱 純化水(氣)流之方法及裝置
公告號 237439
公告日 1995/01/01
證書號 069559
申請號 1993/11/27
國際專利分類號
公報卷期 22-01
發明人 布蘭迪克斯.賈斯柏斯;甄.康本;瓊安斯.卡布杜恩
申請人 伊蔻淨化系統有限公司 荷蘭
代理人 林敏生
優先權
參考文獻
審查人員

專利摘要

本發明係關於將含有不欲之有機和/或無機雜質的水(氣)流予以純化的方法,在此方法中,欲處理的水(氣)流被導至含有活性碳填充床的含水反應區中,在反應區內施以電壓並同時將臭氧或氫氣餵入其中,本發明亦係關於實施該方法的設備,至少包含:一個含有活性碳(此活性碳填充床可被用來作為電極)填充床的反應容器,置於填充床內、用來提供或移走電流的接觸電極,置於反應容器內的抗衡電極,使得活性碳填充床與抗衡電極之間絕緣的設備,用以餵入液體的裝置,用以引出液體的裝置,用以將含臭氧氣體餵入的裝置,及用以將廢氣引出的裝置。


專利範圍

1.一種將含有不欲之有機和/或無機雜質的水(氣)流予以
純化的方法,係將欲處理的水(氣)流導至含有活性碳填充
床的含水反應區中,其特徵為在該填充床內施以電化學電
壓,並同時將選自臭氧或氫氣的反應物以次化學計量的量
餵入該填充床中,該次化學計量之量在當使用臭氧時為少
於1公斤OC_3C/公斤COD,在當使用氫氣時為少於1公斤HC
_2C/公斤CHD。
2.如申請專利範圍第1項之方法,其中,活性碳填充床中
的活性碳之面積在50平方米/克以上,最好是200-1200
平方米/克,且其孔隙體積不小於0.05立方厘米/克,最
好是0.1-0.3立方厘米/克。
3.如申請專利範圍第1項之方法,其中,填充床的電化學
電位,相對於Hg/HgSoC_4C參考電極,低於10伏特且最好
在0.1-4伏特的範圍內。
4.如申請專利範圍第3項之方法,其中,填充床的電化學
電位比將水加以電解所須的電壓要來得低。
5.如申請專利範圍第1至3項中任何一項之方法,其中,
在以OC_3C進行氧化反應時,所用的電量低於3.35kAh/公
斤COD,或者,在以HC_2C進行還原反應時,所用的電量低
於26.8kAh/公斤COD。
6.如申請專利範圍第1至3項中任何一項之方法,其中,
臭氧的用量是0.001-
0.5公斤OC_3C/公斤欲移除的雜質之COD,最好是0.005-
0.3公斤OC_3C/公斤COD及/或所用的氫量是0.001-0.5
公斤HC_2C/公斤欲移除的雜質之CHD,最好是0.005-0.3
公斤OC_3C/公斤CHD。
7.如申請專利範圍第1至3項中任何一項之方法,其中,
在反應區內的溫度在20℃以上,以30-80℃為較佳。
8.一種用以純化水(氣)流之設備,其特徵為至少包含:一
個含有活性碳(此活性碳填充床可被用來作為電極)填充床
(2)的反應內容器(1),置於填充床內,用來提供或移走電
流的接觸電極(3),置於反應容器內的抗衡電極(5),使得
活性碳填充床與抗衡電極之間絕緣的設備(4),用以餵入
液體的裝置(8),用以引出液體的裝置(9),用以將含臭氧
氣體餵入的裝置(7),及用以將廢氣引出的裝置(10)。
9.如申請專利範圍第8項之設備,其特徵為接觸電極和/


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