氫氧化鎂微粒子及氧化鎂微粒子之製造方法 METHOD FOR PRODUCING MAGNESIUM HYDROXIDE MICROPARTICLE AND MAGNESIUM OXIDE MICROPARTICLE
申請人· 達泰豪化學工業股份有限公司 TATEHO CHEMICAL INDUSTRIES CO., LTD. 日本 JP


專利信息

專利名稱 氫氧化鎂微粒子及氧化鎂微粒子之製造方法
公告號 I529133
公告日 2016/04/11
證書號 I529133
申請號 2011/09/28
國際專利分類號
公報卷期 43-11
發明人 大崎善久 OHSAKI, YOSHIHISA
申請人 達泰豪化學工業股份有限公司 TATEHO CHEMICAL INDUSTRIES CO., LTD. 日本 JP
代理人 洪武雄; 陳昭誠
優先權 日本 2010-217166 20100928
參考文獻 TW200906728A; CN1800020A; JP2009-7215
審查人員 葉献全

專利摘要

本發明提供一種粒徑小且均勻的高純度氫氧化鎂微粒子及一種高純度氧化鎂微粒子。 該高純度氫氧化鎂微粒子的特性為:BET比表面積在5m2/g以上,雷射繞射散射式粒度分佈測定的體積基準的累積50%粒徑(D50)為0.1至0.5μm,雷射繞射散射式粒度分佈測定的體積基準的累積10%粒徑(D10)與體積基準的累積90%粒徑(D90)的比D90/D10在10以下,純度99.5質量%以上;而該氧化鎂的特性為:BET比表面積在5m2/g以上,雷射繞射散射式粒度分佈測定的體積基準的累積50%粒徑(D50)為0.1至0.5μm,雷射繞射散射式粒度分佈測定的體積基準的累積10%粒徑(D10)與體積基準的累積90%粒徑(D90)的比D90/D10在10以下,純度99.5質量%以上。


專利範圍

1.一種氫氧化鎂微粒子的製造方法,係包含如下的步驟:準備氯化鎂水溶液的步驟(A);使氯化鎂水溶液與1至18N的鹼性水溶液,以反應率101至210mol%反應,而獲得氫氧化鎂泥漿的步驟(B);將氫氧化鎂泥漿一面攪拌一面保持於101至200℃的溫度,獲得水熱處理過的氫氧化鎂泥漿的步驟(C);以及將水熱處理過的氫氧化鎂泥漿過濾、水洗及乾燥,而獲得氫氧化鎂微粒子的步驟(D),其中,步驟(A)係含有如下述的步驟:準備粗氯化鎂水溶液的步驟(A-1);使粗氯化鎂水溶液與1至18N的鹼性水溶液,以反應率1至30mol%反應,而獲得粗氫氧化鎂泥漿的步驟(A-2);及在粗氫氧化鎂泥漿添加凝集劑後,將氫氧化鎂過濾,作為濾液而獲得氯化鎂溶液,或添加凝集劑,使氫氧化鎂凝集沉澱,而作為上澄液獲得氯化鎂水溶液的步驟(A-3),其中,步驟(D)含有如下步驟:將水熱處理過的氫氧化鎂泥漿過濾、水洗,而獲得第一的氫氧化鎂泥餅的步驟(D-1);在第一的氫氧化鎂泥餅中,添加相對於乾燥氫氧化鎂質量基準量為5至100倍的純水,攪拌後,過濾、水洗而獲得第二的氫氧化鎂泥餅的步驟(D-2);代替第一的氫氧化鎂泥餅,而對第二的氫氧化鎂泥餅,將步驟(D-2)反覆1至20次,獲得高純度氫氧化鎂泥餅的步驟(D-3);及將高純度氫氧化鎂泥餅乾燥,而獲得氫氧化鎂微粒子的步驟(D-4)。 2.如申請專利範圍第1項所述的製造方法,係得到其BET比表面積在5m 2 /g以上,雷射繞射散射式粒度分佈測定法所得的體積基準的累積50%粒徑(D50)在0.1至0.5μm,雷射繞射散射式粒度分佈測定法所得的體積基準的累積10%粒徑(D10)與體積基準的累積90%粒徑(D90)的比D90/D10為10以下,純度99.5質量%以上之氫氧化鎂微粒子。 3.如申請專利範圍第2項所述的製造方法,其中,氫氧化鎂微粒子之純度在99.9質量%以上。 4.如申請專利範圍第2項或第3項所述的製造方法,其中,氫氧化鎂微粒子之Fe、Ti、Ni、Cr、Mo及Mn的合計含有量在500質量ppm以下。 5.如申請專利範圍第2項或第3項所述的製造方法,其中,氫氧化鎂微粒子之氯含有量在500質量ppm以下。 6.如申請專利範圍第2項或第3項所述的製造方法,其中,氫氧化鎂微粒子之體積基準的平均粒徑(Dv)與個數基準的平均粒徑(Dn)的比Dv/Dn是1至10。 7.一種氧化鎂微粒子


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專利資訊及圖示來源: 中華民國專利資訊檢索系統