無機酸



  • 無機改質抗菌PU材料

    公告號:200508269 - 展宇科技股份有限公司 新竹縣湖口鄉光復路71號

  • 包含無機填料之黏著性軌枕材料

    公告號:200508025 - 國際紙業公司 INTERNATIONAL PAPER COMPANY 美國

    1.一種黏著性軌枕層材料,包括酸酐改質聚烯烴與無機填料之摻合物,該無機填料係選自於由金屬碳酸鹽、金屬氫氧化物、金屬氧化物、金屬硫酸鹽、黏土、高嶺土、滑石、氧化矽、矽藻土、氧化鋁、雲母、玻璃粉及沸石所組成之群組中。 2.如申請專利範圍第1項之黏著性軌枕層材料,其中該無機填料係選自於由碳酸鈣、黏土、滑石

  • 無機配向膜之形成方法、無機配向膜、電子裝置用基板、液晶面板及電子機器

    公告號:200511172 - 精工愛普生股份有限公司 SEIKO EPSON CORPORATION 日本

    1.一種無機配向膜之形成方法,係屬於在基材上形成無機配向膜之方法,其特徵為,具有:在前記基材上,形成一主要以無機材料所構成之膜的成膜工程;和在前記膜的表面上,從對於該表面之垂直方向恰好傾斜所定角度θ b 的方向,照射離子束的研磨工程。 2.如申請專利範圍第1項之無機配向膜之形成方法,其中,於前記研磨

  • 單晶片式無機駐極體電容麥克風及其製造方法

    公告號:200513133 - 國立中興大學 NATIONAL CHUNGHSING UNIVERSITY 臺中市南區國光路250號

    1.一種單晶片式無機駐極體電容麥克風,是可電性連結於一電路板上,該單晶片式無機駐極體電容麥克風包含:一可與該電路板相連結之機殼,具有一界定出一第一空間之殼體;及一駐極體電容麥克風晶片,是封裝於該殼體中,並與該電路板電性連結,該駐極體電容麥克風晶片具有一電極層;一自該電極層向下形成之駐極體振動膜,包括

  • 半導體光源之多波峰螢光無機物

    公告號:200512950 - 羅維鴻 臺北市松山區三民路95巷10號4樓

    1.一種半導體光源之多波峰螢光無機物,其適用於半導體光源之白光發光裝置,該半導體光源可發出波長範圍為400~530nm之光,該螢光無機物不僅含有習知之釔鋁石榴石成份,更包含了IVB族氧化物,此等氧化物可與IIA族元素如鈣(Ca)、鍶(Sr)或鋇(Ba)等之氧化物結合,並在銪Eu 3+ )氧化物之活化

  • 帶有無機塗層之塑料物件,其用途及其製法

    公告號:200512232 - 羅恩有限兩合公司 ROHM GMBH & CO. KG 德國

    1.一種從藉由自由基聚合所得之塑料中製造在其一或多個側面上帶有無機塗層之塑料物件之方法,彼包括下列步驟:a)使用刮塗、流塗、或浸塗方式以塗料組合物塗覆一基材,其中該組合物內之以矽為基底之附著促進劑及無機粒子於溶劑中之比率係1:9至9:1,若適當的話該組合物還可包含流量控制劑,b)乾燥基材上之塗料組合

  • 具有經控制電洞與電子注入結構的無機電致發光裝置

    公告號:200514280 - 惠普研發公司 HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY, L.P. 美國

    1.一種電致發光裝置,包含:一無機螢光質係可藉由注入的電洞與電子重組而造成電致發光;一可控的電洞注入結構會接觸該無機螢光質;及一可控的電子注入結構會接觸該無機螢光質,而以該無機螢光質之一重組區來與該可控的電洞注入結構分開。 2.如申請專利範圍第1項之電致發光裝置,其中會施加:一第一控制電壓能控制電洞

  • 無機配向膜之形成方法、無機配向膜、電子裝置基板、液晶面板以及電子機器

    公告號:200513707 - 精工愛普生股份有限公司 SEIKO EPSON CORPORATION 日本

    1.一種無機配向膜之形成方法,係在基材上主要形成以無機材料所構成之無機配向膜之方法,其特徵係具有於形成上述基材之上述無機配向膜之面,對於與該面呈垂直之方向,自僅傾斜特定角度 θ a 之方向,照射離子束之第1之研磨工程,和於照射上述離子束之上述基材上,形成主要以無機材料所構成之膜之成膜工程,和於上述膜

  • 聚醯亞胺/氧化矽有機無機混成薄膜材料及其製備方法

    公告號:200513481 - 陳文章 CHEN, WEN-CHANG 臺北市大安區羅斯福路4段1號

    1.一種製備聚醯亞胺/氧化矽有機無機混成薄膜材料之方法,包括下列步驟:(a)以芳族二酸酐及芳族二胺在35℃或低於35℃之溫度反應,以製備聚醯胺酸,其中該芳族二酸酐與該芳族二胺的莫耳比為使聚醯胺酸末端仍帶有未反應之酸酐基;(b)以式H 2 N-R 1 -Si(R 2 ) 3 所示之胺基偶合劑(其中R

  • 無機配向膜之形成方法、無機配向膜、電子裝置用基板、液晶面板及電子機器

    公告號:200516526 - 精工愛普生股份有限公司 SEIKO EPSON CORPORATION 日本

    1.一種無機配向膜之形成方法,係在基材上主要形成以無機材料所構成之無機配向膜之方法,其特徵係具有於形成上述基材之上述無機配向膜之面,對於該面之垂直方向,自僅傾斜特定角度 θ b 之方向,照射離子束之研磨工程,和於照射上述離子束之上述基材上,形成上述無機配向膜之成膜工程。 2.如申請專利範圍第1項所述

  • 無磷酸之多晶矽閘極定義製程

    公告號:200518333 - 台灣積體電路製造股份有限公司 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD. 新竹市新竹科學工業園區力行六路8號

    1.一種在半導體基材上定義金氧半導場效電晶體元件之導電閘極結構的方法,至少包括:提供一閘極絕緣層位於該半導體基材上;形成一導電層位於該閘極絕緣層上;形成一覆蓋絕緣層於該導電層上;形成一介電抗反射覆蓋(DARC)層於該覆蓋絕緣層上;形成圖案化之一光阻圖案於該介電抗反射覆蓋層上;使用該光阻圖案做為蝕刻罩

  • 含有作為無機防晒劑之分散氧化鋅顆粒之高皮膚摩擦化妝乳霜

    公告號:200517135 - 聯合利華公司 UNILEVER N. V. 荷蘭

    1.一種將ZnO顆粒加入包含固體非對稱顆粒之化妝品組合物中之方法,該方法包含:熔化該等固體非對稱顆粒以形成熔融脂肪酸;將未經塗佈之ZnO顆粒加入該熔融脂肪酸中以形成ZnO與脂肪酸之混合物;將該混合物加熱至低於約80℃之溫度約5至約10分鐘;將該混合物冷卻至約50℃之溫度,藉此中止該ZnO與該脂肪酸之

  • 無機/有機混成之奈米層疊屏蔽層

    公告號:200520275 - 奈米太陽能股份有限公司 NANOSOLAR, INC. 美國

    1.一種製造無機/有機混成之奈米層疊屏蔽層的方法,包含:將烷氧化物、乙醇、水、稀HCl混合,並加熱所得的混合物;在混合物中加入一偶合劑,在混合物中加入界面活性劑,其量足使界面活性劑的起始濃度在臨界微胞濃度之下;在混合物中加入一種或多種適用以產生聚合物的聚合物前驅物,該聚合物選自聚萘二甲酸乙二酯(PE

  • 無機質膜、使用其之PDP用構件及其製造方法

    公告號:200520004 - 富士電子材料股份有限公司 FUJIFILM ELECTRONIC MATERIAL S CO., LTD. 日本

    1.一種無機質膜,其特徵為具有剖面之空隙尺寸為0.1~30微米,空隙面積率為5~75%、縱橫比為1~10且高度為100~800微米的阻隔壁。 2.如申請專利範圍第1項之無機質膜,其中介電常數為3.5~12。 3.一種無機質膜或PDP(電漿顯示面板)用構件,其特徵為包括如申請專利範圍第1或2項之無機質

  • 經無機有機複合處理之鍍鋅鋼板(一)

    公告號:200519225 - 新日本製鐵股份有限公司 NIPPON STEEL CORPORATION 日本

    1.一種經無機有機複合處理之鍍鋅鋼板,係於鋼板上具有(002)面之結晶定向為50%以上之鍍鋅層,並於該鍍鋅層上具有含有鎂之磷酸鋅皮膜,且更於該磷酸鋅皮膜上具有有機皮膜層者。 2.如申請專利範圍第1項之經無機有機複合處理之鍍鋅鋼板,其中前述磷酸鋅皮膜中之鎂/磷(質量比)為0.1以上,且鎂量為20mg/