無機酸氣體處理方法及其裝置 METHOD AND APPARATUS FOR TREATING INORGANIC ACID GAS
申請人· 財團法人工業技術研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE 新竹縣竹東鎮中興路4段195號


專利信息

專利名稱 無機酸氣體處理方法及其裝置
公告號 I300011
公告日 2008/08/21
證書號 I300011
申請號 2004/11/10
國際專利分類號
公報卷期 35-24
發明人 沈克鵬 SHEN, KEH-PERNG;王麗婷 WANG, LI-TING
申請人 財團法人工業技術研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE 新竹縣竹東鎮中興路4段195號
代理人
優先權
參考文獻 TW412432 B; GB655097 A; GB1311014 A; GB2195916 A; US2003205134 A; 1999年公開之系統編號087CCU00063006碩士論文摘要(檢索自全國博碩士論文資訊網); 2000年公開之系統編號088NCKU0515023碩士論文摘要(檢索自全國博碩士論文資訊網)
審查人員

專利摘要

無機酸氣體處理方法及其裝置簡圖

本發明係關於一種無機酸氣體之處理方法與裝置,其
方法步驟包括:(a)將無機酸氣體與一霧化鹼液形成一混合
物,其中霧化鹼液可連續性或間歇性產生;(b)將混合物通
過一具有吸附劑之床體,其中吸附劑可經水清洗、鹼液噴
灑或浸泡處理;以及(c)排出處理過之氣體;本發明之再生
性除酸設備可同時設置多組無機酸氣體之再生性處理裝置
,所以每組吸附劑床可直接線上再生,而減少吸附劑吸附
耗竭更換之成本、製程作業時間與設備佔用空間;本發明
對無機酸氣體處理進行測試,諸如氫氯酸氣體可達到良好
的去除效果,長時間操作亦可維持設備之穩定性。


專利範圍

1.一種低濃度無機酸氣體之再生性除酸裝置,其中該低濃度係為濃度5ppmv以下,其裝置包括:
一具有一進氣口與一出氣口之槽體;
至少一吸附劑床體,係位於該槽體內並含有至少一吸附劑;
至少一鹼液供應單元,係位於該槽體內並提供及霧化一鹼液於該至少一吸附劑床體,其中該鹼液霧化後而產生之微細液滴之直徑係小於2毫米;以及
至少一清洗液提供單元,係位於該槽體內並提供清洗該至少一吸附劑用之液體;其中,該至少一鹼液供應單元係位於該至少一吸附劑床體與該進氣口之間。
2.如專利申請範圍第1項所述之再生性除酸裝置,其中該鹼液為氫氧化鉀水溶液、氫氧化鈉水溶液或其混合液。
3.如專利申請範圍第1項所述之再生性除酸裝置,其中該至少一吸附劑為圓柱狀活性碳、顆粒狀活性碳、破碎狀活性碳、活性碳纖維布、沸石吸附劑其中或前述兩者以上之混合。
4.如專利申請範圍第1項所述之再生性除酸裝置,其中該至少一吸附劑床體之厚度為1cm至60cm。
5.如專利申請範圍第1項所述之再生性除酸裝置,其中該清洗液提供裝置係提供去離子水、逆滲透處理之純水、蒸餾水、自來水或前述兩者以上之混合液。
6.如專利申請範圍第1項所述之再生性除酸裝置,其中該進氣口包含一閘門,係關閉於該清洗液單元清洗該吸附劑時。
7.如專利申請範圍第1項所述之再生性除酸裝置,其中更包含一位於該進氣口與該吸附劑床體之間之閘門,以於該清洗液單元清洗該吸附劑時關閉。
8.一種無機酸氣體之再生性除酸設備,係包括
一具有複數個連接口之接管;以及
複數個無機酸氣體之再生性除酸裝置,每一再生性除酸裝置係包含:
一具有一進氣口與一出氣口之槽體;
至少一吸附劑床體,係位於該槽體內並含有至少一吸附劑;
至少一鹼液供應單元,係位於該槽體內並提供及霧化一鹼液於該至少一吸附劑床體,其中該鹼液霧化後而產生之微細液滴之直徑係小於2毫米;以及
至少一清洗液提供單元,係位於該槽體內並提供清洗該至少一吸附劑用之液體;
其中,該鹼液供應單元係位於該至少一吸附劑床體與該進氣口之間;且
每一槽體之進氣口與該接管之一連接口相連接。
9.如專利申請範圍第8項所述之再生性除酸設備,其中該鹼液為氫氧化鉀水溶液、氫氧化鈉水溶液或其混合液。
10.如專利申請範圍第8項所述之再生性除酸設備,其中該至少一吸附劑為圓柱狀活性碳、顆粒狀活性碳、破碎狀活性碳、活性碳纖維布、沸石吸附劑其中或前述兩者以上之混合。
11.如專利申請範圍第8項所述之再生性除酸設備,其中該進氣口包含一閘門,係關閉於該清洗液單元清洗該吸附劑時。
12.一種低濃度無機酸氣體之處理方法,其中該低濃度係為濃度5ppmv以下,包含以下步驟:
(a)將該無機酸氣體與一霧化鹼液形成一混合物,其中霧化鹼液可連續性或間歇性產生,且其中該鹼液霧化後而產生之微細液滴之直徑係小於2毫米;
(b)將該混合物通過一具有吸附劑之床體,其中該吸附劑係經水清洗、鹼液噴灑或浸泡處理;以及
(c)排出處理過之氣體。
13.如專利申請範圍第12項所述之處理方法,其中更包括:
(d)重複步驟(b)將該混合物通過具有該吸附劑之該床體,其中該吸附劑係經水清洗、鹼液噴灑或浸泡處理,與(c)排出處理過之氣體;以及
(e)以一清洗液清洗該吸附劑並且將一鹼液霧化噴灑或浸泡該吸附劑上。
14.如專利申請範圍第12項所述之處理方法,其中該無機酸氣為氫氟酸、氫氯酸、硝酸、硫酸、磷酸或前述兩者以上之混合。
15.如專利申請範圍第12項所述之處理方法,其中該鹼液為氫氧化鉀水溶液、氫氧化鈉水溶液或其混合液。
16.如專利申請範圍第12項所述之處理方法,其中該吸附劑為圓柱狀活性碳、顆粒狀活性碳、破碎狀活性碳、活性碳纖維布、沸石吸附劑或前述兩者以上之混合。
圖式簡單說明:
圖1係本發明無機酸氣體之再生性除酸裝置之剖視圖。
圖2係本發明無機酸氣體之再生性除酸設備之設備架構圖。


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專利資訊及圖示來源: 中華民國專利資訊檢索系統