添加無機酸或其鹽類至偏苯三酸酐(TMA)之製造方法 Addition of Mineral Acids or Salts Thereof to a TMA Production Process
申請人· BP公司北美股份有限公司 BP CORPORATION NORTH AMERICA INC. 美國


專利信息

專利名稱 添加無機酸或其鹽類至偏苯三酸酐(TMA)之製造方法
公告號 I227233
公告日 2005/02/01
證書號 I227233
申請號 2002/01/18
國際專利分類號
公報卷期 32-04
發明人 史蒂文A. 塞洛法伊斯 STEVEN A. CEREFICE;維尼P. 史凱莫爾 WAYNE P. SCHAMMEL;大衛A. 揚格 DAVID A. YOUNG
申請人 BP公司北美股份有限公司 BP CORPORATION NORTH AMERICA INC. 美國
代理人 惲軼群;陳文郎
優先權 美國 60/262,941 20010119
參考文獻
審查人員

專利摘要

添加無機酸或其鹽類至偏苯三酸酐(TMA)之製造方法簡圖

本發明係有關於偏苯三酸酐的製造。更特定,本發明係有關於添加無機酸或其鹽類至偏苯三酸酐的製造方法中以降低當藉由蒸餾純化偏苯三酸酐時底部分離部分的黏度及因此防止積垢/堵塞。此允許在底部分離部分使用較低量的偏苯三酸酐及增加偏苯三酸酐的回收。


專利範圍

1.一種製造偏苯三酸酐的方法,其包含:
a)在存有一溶劑及一包含多價金屬的催化劑中氧化假枯烯以產生偏苯三甲酸;
b)結晶及過濾該偏苯三甲酸以產生一粗製的偏苯三甲酸濾餅,該偏苯三甲酸濾餅具有包含該多價金屬的雜質;
c)將該偏苯三甲酸濾餅脫水以形成粗製的偏苯三酸酐;
d)將該粗製的偏苯三酸酐在一分餾塔中蒸餾,以將粗製偏苯三酸酐分離成一相當低沸點的部分及一較低揮發性的底部分離部分;
其中,一包含有無機酸之鹼金族或鹼土族鹽類的黏度降低劑係在步驟a)之後但在步驟d)之前加入,藉此該黏度降低劑係出現於該底部分離部分,該無機酸係選自於由硫酸、硝酸、硼酸、磷酸、氫溴酸及該等之混合物所構成之群組。
2.如專利申請範圍第1項之方法,其中該黏度降低劑係為一種選自於由硫酸、硝酸、硼酸、磷酸、氫溴酸及該等之混合物所構成之群組之無機酸的鹼金族或鹼土族鹽類且是被加入該粗製的偏苯三甲酸濾餅。
3.如專利申請範圍第1項之方法,其中該黏度降低劑為磷酸的鹼金族或鹼土族金屬鹽。
4.如專利申請範圍第3項之方法,其中該磷酸之鹼金族或鹼土族鹽類係加入該濾餅,俾使得該磷對該濾餅中總多價金屬的莫耳比為自1:10到10:1。
5.如專利申請範圍第4項之方法,其中該莫耳比為自1:4到4:1。
6.如專利申請範圍第4項之方法,其中該莫耳比為自1:3到1:1。
7.如專利申請範圍第4項之方法,其中該莫耳比為自1:2到1:1。
8.一種製造偏苯三酸酐的方法,其包含:
a)在存有一溶劑及一包含多價金屬的催化劑中氧化假枯烯以產生偏苯三甲酸;
b)結晶及過濾該偏苯三甲酸以產生一粗製的偏苯三甲酸濾餅,該偏苯三甲酸濾餅具有包含該多價金屬的雜質;
c)將該偏苯三甲酸濾餅脫水以形成粗製的偏苯三酸酐;
d)將該粗製的偏苯三酸酐在一分餾塔中蒸餾,其中一包含有磷酸之黏度降低劑係被加入該粗製偏苯三酸酐濾餅中,俾使得該磷對該濾餅中總多價金屬的莫耳比為自1:10到1:2。
9.如專利申請範圍第8項之方法,其中該莫耳比為自1:4到1:2。
10.如專利申請範圍第8項之方法,其中該莫耳比為自1:3到1:2。
圖式簡單說明:
第1圖係表現一常見的分餾塔


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