液體承裝裝置、光學掃描裝置及其製造方法 FLUID FILLED DEVICE AND OPTICAL SCANNING DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
申請人· 皇家飛利浦電子股份有限公司 KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. 荷蘭 NL


專利信息

專利名稱 液體承裝裝置、光學掃描裝置及其製造方法
公告號 I349112
公告日 2011/09/21
證書號 I349112
申請號 2004/02/20
國際專利分類號
公報卷期 38-27
發明人 史丹 庫伯 KUIPER, STEIN; 德克 斐瑟 VISSER, DERK
申請人 皇家飛利浦電子股份有限公司 KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. 荷蘭 NL
代理人 陳長文
優先權 歐洲專利局 03075556.5 20030225
參考文獻 US4582391; US6369954B1
審查人員

專利摘要

提供一種裝置(100;200;300;400),包含一含有n體積的流體(80,87;220,230;320,332;420,422,430,432)的密封穴(210),其中n係整數且n≧2。各體積的流體與各相鄰體積的流體大致上不互相混合,穴由一分成n連續區域(60,170;260,270;360,362,370;460,462,470,472)的內表面界定,各連續區域對應於且接觸於個別體積的流體。各區域的濕潤度係俾使各體積的流體優先黏結至對應的連續區域,而非對應區域附近的任一連續區域。


專利範圍

1.一種液體承裝裝置(100;200;300;400),包含一含有n體積的流體(80,87;200,230;320,330,332;420,422,430,432)的密封穴(210),其中n係整數且n≧2,各體積的流體與各相鄰體積的流體大致上不互相混合,該穴(210)由一分成n連續區域(60,17;260,270:360,362,370;460,462,470,472)的內表面界定,各連續區域對應於且接觸於個別體積的流體,各區域的濕潤度係俾使各體積的流體優先黏結至對應的該連續區域,而非該對應區域附近的任一連續區域。 2.如申請專利範圍第1項之裝置,其中至少一該連續區域包含一由電絕緣層(50;270)遮蓋的電極(42;242)。 3.如申請專利範圍第1或2項之裝置,其中至少一該連續區域包含一電極(41;260)的表面。 4.如申請專利範圍第1項之裝置,其中n=2。 5.如申請專利範圍第1項之裝置,其中各該流體係液體(80,87;220,230;320,332;420,422,430,432)。 6.如申請專利範圍第1項之裝置,其中至少一該流體係氣體或蒸氣。 7.如申請專利範圍第1項之裝置,其中各流體(80,87;220,230;320,332;420,422,430,432)具有大致上類似的密度。 8.一種光學掃描裝置(1),用於掃描一光學記錄載體(2)的資訊層(4),該裝置包含一用於產生輻射線(12,15,17,20)的輻射源(11)及一用於使該輻射線收歛在該資訊層上的物鏡系統(18),其中該光學掃描裝置包含一液體承裝裝置(100;200;300;400),其包含一含有n體積的流體(80,87;220,230;320,332;420,422,430,432)的密封穴,n係整數且n≧2,各體積的流體與各相鄰體積的流體大致上不互相混合,該穴由一分成n連續區域(60,170;260,270;360,362,370;460,462,470,472)的內表面界定,各連續區域對應於且接觸於個別體積的流體,各區域的濕潤度係俾使各體積的流體優先黏結至對應的該連續區域,而非該對應區域附近的任一連續區域。 9.如申請專利範圍第8項之裝置,其中該物鏡系統包含該電濕潤裝置(100;200;300;400)。 10.一種製造一液體承裝裝置(80,87;220,230;320,332;420,


類似專利

公告號 專利名稱 申請人
I402740 觸壓裝置、透明掃描電極及其製造方法 財團法人工業技術研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE 新竹縣竹東鎮中興路4段195號 TW
201120726 觸壓裝置、透明掃描電極及其製造方法 財團法人工業技術研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE 新竹縣竹東鎮中興路4段195號 TW
I443418 光學膜複合物及其製造方法、液晶顯示裝置 3M新設資產公司 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY 美國 US
I516806 光學元件結構及其製造方法 台灣積體電路製造股份有限公司 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY LIMITED 新竹市新竹科學園區力行六路8號 TW
I448431 光學鈍化薄膜及其製造方法以及太陽能電池 財團法人工業技術研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE 新竹縣竹東鎮中興路4段195號 TW
I393922 光學膜片結構及其製造方法 穎台科技股份有限公司 桃園縣平鎮工業區工業五路12號 TW
I347884 方形光學玻璃鏡片及其製造方法 一品光學工業股份有限公司 E-PIN INDUSTRY OPTICAL CO., LTD. 臺北市北投區大業路166號9樓 TW
I305587 光學薄膜結構及其製造方法 達信科技股份有限公司 DAXON TECHNOLOGY INC. 桃園縣龜山鄉建國東路29號
I298490 光學元件、光學元件圓片及其製造方法 巴川製紙所股份有限公司 TOMOEGAWA PAPER CO., LTD. 日本
I281078 光學補償膜以及其製造方法 力特光電科技股份有限公司 OPTIMAX TECHNOLOGY CORPORATION 桃園縣平鎮市平東路659巷37號
I275471 非複屈折性光學樹脂材料及其製造方法 小池康博 YASUHIRO KOIKE 日本
I269086 光學總成結構及其製造方法 萬國商業機器公司 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 美國
I255836 UV硬化光學膠組成物及其製造方法 財團法人工業技術研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE 新竹縣竹東鎮中興路4段195號
I224202 複合功能光學膜之結構及其製造方法 財團法人工業技術研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE 新竹縣竹東鎮中興路四段一九五號
583238 聚碳酸酯奈米複合光學塑性物件及其製造方法 柯達公司 EASTMAN KODAK COMPANY 美國
555796 聚奈米複合材光學塑料物件及其製造方法 柯達公司 美國
538082 聚苯乙烯奈米複合材光學塑料物件及其製造方法 柯達公司 美國
476003 光學電路元件及其製造方法 3M新設資產公司 美國 東晴股份有限公司 日本
459224 相變化型光學記錄媒介及其製造方法 帝人股份有限公司 日本
446827 低水份波峰値之光學波導纖維及其製造方法 康寧公司 美國

專利資訊及圖示來源: 中華民國專利資訊檢索系統