汙泥處理設備
申請人· 鴻淇實業有限公司 HAUNG CHYI INDUSTRIAL CO., LTD. 高雄市大寮區濃公路51號(工廠) TW


專利信息

專利名稱 汙泥處理設備
公告號 M443708
公告日 2012/12/21
證書號 M443708
申請號 2012/07/10
國際專利分類號
公報卷期 39-36
發明人 林鴻淇 LIN, HOUNG CHYI; 林季德 LIN, CHIH TE; 王進琦 WANG, JINN CHYI
申請人 鴻淇實業有限公司 HAUNG CHYI INDUSTRIAL CO., LTD. 高雄市大寮區濃公路51號(工廠) TW
代理人 陳瑞田; 康清敬
優先權
參考文獻
審查人員

專利摘要

汙泥處理設備簡圖

一種汙泥處理設備包含曝氣槽、沉澱槽以及第一管件。曝氣槽包含第一槽室以及連通第一槽室的第一接口;沉澱槽包含第二槽室以及連通第二槽室的第二接口;第一管件具有第一端與相對第一端的第二端,第一端連接至第一接口,第二端連接至第二接口;其中,第一槽室用以盛裝包含污泥(例如:活性污泥)與污水(例如:培養基)的混合液,並提供曝氣程序使汙泥對汙水中的懸浮固體或可溶性有機物進行分解作業,之後利用第一管件將分解作業後的汙泥與汙水輸送至第二槽室,第二槽室用以提供沉澱程序使分解作業後的汙泥沉澱。


專利範圍

1.一種汙泥處理設備,包含:一曝氣槽,包含一第一槽室以及連通該第一槽室的一第一接口;一沉澱槽,包含一第二槽室以及連通該第二槽室的一第二接口;以及一第一管件,具有一第一端與相對該第一端的一第二端,該第一端連接至該第一接口,該第二端連接至該第二接口;其中,該第一槽室用以盛裝包含一汙泥與一汙水的一混合液,並提供一曝氣程序使該汙泥對該汙水中的一懸浮固體或一可溶性有機物進行一分解作業,之後利用該第一管件將該分解作業後的該汙泥與該汙水輸送至該第二槽室,該第二槽室用以提供一沉澱程序使該分解作業後的該汙泥沉澱。
2.如申請專利範圍第1項所述汙泥處理設備,其中該分解作業後的該汙水經由該沉澱槽的一液體排出口排出。
3.如申請專利範圍第1項所述汙泥處理設備,其中該曝氣槽更包含連通該第一槽室的一第三接口,該沉澱槽更包含連通該第二槽室的一第四接口,該汙泥處理設備更包含一第二管件,該第二管件具有一第三端與相對該第三端的一第四端,該第三端連接至該第三接口,該第四端連接至該第四接口。
4.如申請專利範圍第3項所述汙泥處理設備,其中該沉澱槽更包含連通該第二管件的一汙泥排放管件。
5.如申請專利範圍第4項所述汙泥處理設備,其中該曝氣槽更包含連通該第一槽室的一排放口。
6.如申請專利範圍第5項所述汙泥處理設備,其中該第一管件、該液體排出口、該第二管件、該汙泥排放管件或該排放口具有一控制閥門。


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