汙水處理設備



  • 在一具有多重指令集的資料處理設備內之指令編碼

    公告號:200428277 - ARM股份有限公司 ARM LIMITED 英國

    1.一種資料處理設備,該設備至少包含:一資料處理邏輯,可操作以執行資料處理操作;及一指令解譯器,可操作以解譯程式指令,該些程式指令指明由該資料處理邏輯執行之資料處理操作及控制該資料處理邏輯執行該資料處理操作;其中該指令解譯器可在一第一模式操作以解譯一第一指令集之程式指令;該指令解譯器亦可在一第二模式

  • 電漿處理設備用的石英零件及其復原方法

    公告號:200501204 - 川崎微電子股份有限公司 KAWASAKI MICROELECTRONICS INC. 日本

    1.一種用於電漿處理設備中之板形石英零件,該零件包含:一內部周邊;一主要表面,其由該內部周邊向外延伸;第一部份,其環繞著該內部周邊,該第一部份具有一在該主要表面上之平坦第一區域;及第二部份,其毗連該第一部份之外部周邊,該第二部份之厚度小於該第一部份之厚度,該第二部份具有在該主要表面上毗連該第一區域之

  • 清潔片材,具有清潔功能之搬送構件及基板處理設備之清潔方法

    公告號:200503093 - 日東電工股份有限公司 NITTO DENKO CORPORATION 日本

    1.一種清潔片材,包含一清潔層以及一可離型保護膜層合於該清潔層上,其中當保護膜由清潔層撕離時,於清潔層之CH 3 Si + 、C 3 H 9 Si + 、C 5 H 15 Si 2 O + 、C 5 H 15 Si 3 O 3 + 、C 7 H 21 Si 3 O 2 + 、CH 3 SiO - 、

  • 資料處理設備之固定結構

    公告號:200513828 - 微星科技股份有限公司 MICRO-STAR INT' L CO., LTD. 臺北縣中和市立德街69號

    1.一種資料處理設備之固定結構,用以將一資料處理設備懸置於一物體之底側,係包含有:一固接頂座,接合於該資料處理設備之一側,並具有一定位部;一導引件,裝配於該固接頂座之一側,該導引件之相對兩側分別形成有一翼部;一接合座,係固設於該物體之底側,並與該翼部之對應處設有一滑槽,以供該翼部可相對滑動於該滑槽;

  • 資訊處理系統,資訊處理設備及方法,記錄媒體,及節目

    公告號:200515823 - 新力股份有限公司 SONY CORPORATION 日本

    1.一種資訊處理系統,包含一第一資訊處理設備,安裝於一用以接收廣播之接收涵蓋區域中,及一第二資訊處理設備,用以依據該第一資訊處理設備所接收之該廣播來觀看視頻/聲頻,其中該第一資訊處理設備包含:接收裝置,用以接收一廣播;產生裝置,用以依據該接收裝置所接收之該廣播的一接收之信號來產生資料;第一通訊裝置,

  • 雷射二極體模組、雷射設備及雷射處理設備

    公告號:200515666 - 雷射先進技術股份公司 LASERFRONT TECHNOLOGIES, INC. 日本

    1.一種雷射二極體模組,包含:一雷射二極體;一第一基板與一第二基板,藉由各自的第一焊料層而連接至該雷射二極體的兩電極面;一散熱器,藉由一第二焊料層而連接至該第一基板;一按壓電極,配置在距該散熱器一預定之間隔處;及一線圈電極,設置在該第二基板與該按壓電極之間,俾使其軸向平行於該第二基板;藉由前述構造,

  • 電子束處理設備

    公告號:200515461 - 應用材料股份有限公司 APPLIED MATERIALS, INC. 美國

    1.一種電子束處理設備,其包含:(a)一室,其具有以下:(i)一陰極,其包含一能產生電子的曝露表面;(ii)一陽極,其具有孔洞,該陽極與該陰極間以一操作距離彼此相間隔,該操作距離係大於該陰極所產生電子的平均自由路徑;(iii)一晶圓支撐器,其係面向該陽極;(iv)一氣體入口,以容許氣體以一氣體引入速

  • 表面處理設備

    公告號:200514632 - 錸寶科技股份有限公司 RITDISPLAY CORPORATION 新竹縣湖口鄉新竹工業區光復北路12號

    1.一種形成一疏水層於待處理物的表面處理設備,至少包含:一清洗單元,其係進行一清洗程序以清潔一待處理物之表面;一疏水層形成單元,其係進行一疏水層形成程序以形成一疏水層於待處理物之上;以及一第一熱處理單元。 2.如申請專利範圍第1項所述之表面處理設備,其中待處理物係為蓋板、基板、形成有發光區之基板或平

  • 用以在一暫存器檔及一記憶體間傳輸資料値之資料處理設備及方法

    公告號:200516391 - ARM股份有限公司 ARM LIMITED 英國

    1.一種資料處理設備,其至少包含:一資料處理單元,其是可操作的用以對資料值實施資料處理操作;一暫存器檔,其具有複數個暫存器其是可操作的用以儲存該資料值以供該資料處理單元存取之用;該資料處理單元系可回應一單一傳輸指令,用以傳輸多資料值於該暫存器檔中對應的複數暫存器與記憶體中之連續的資料值位址之間,該單

  • 處理設備及方法

    公告號:200516169 - 佳能股份有限公司 CANON KABUSHIKI KAISHA 日本

    1.一種處理設備,其為一物體提供電漿處理,該處理設備包括:一處理室,其容納要被處理的一物體並產生電漿;一氣體導入部,其將氣體導入處理室中;以及一機構,其將該物體安排在氣體流中比一電漿產生區上游之處。 2.依據申請專利範圍第1項之處理設備,更包括在該物體與電漿產生區之間的一電導調整器,以將圍繞該物體的

  • 表面處理設備

    公告號:200518257 - 精工愛普生股份有限公司 SEIKO EPSON CORPORATION 日本

    1.一種用以固持一基底之表面處理設備,此基底具有一待執行表面處理之表面及相反於此一表面之另一表面,當對基底之此一表面執行表面處理時,表面處理設備包含:至少一密閉空間,其各由表面處理設備之一部分及基底之另一表面所界定;及一圍繞至少一密閉空間之接觸部,適以緊密地接觸與基底之另一表面,以配合密閉空間及基底

  • 應用於資料處理設備的顯示裝置

    公告號:200517939 - 英業達股份有限公司 INVENTEC CORPORATION 臺北市士林區後港街66號

    1.一種應用於資料處理設備的顯示裝置,可依據一資料處理設備所傳遞之影像訊號而產生顯示畫面,係包含有:一殼體,具有一容置空間,並於一側開設有連通該容置空間之一長槽;一軸柱,以可活動旋轉的關係裝配於該容置空間內;一軟性液晶顯示屏幕,係為可捲曲之平板體,盤繞貼附於該軸柱之外表周圍,並收納於該容置空間內;一

  • 真空處理設備及氣相沈積設備

    公告號:200517513 - 大見忠弘 OHMI, TADAHIRO 日本

    1.一種真空處理設備,包含:一減壓容器;一排氣設備,與該減壓容器相結合;以及一被處理對象物導入門,透過墊圈連接於該減壓容器,其改良在於:包含該被處理對象物導入門之該墊圈的一個以上之墊圈,係由有機物釋放較少的材料所構成。 2.如申請專利範圍第1項之真空處理設備,其中該墊圈的構成材料包含有機物。 3.如

  • 微波激勵型電漿處理設備

    公告號:200522143 - 優貝克科技股份有限公司 ULVAC, INC. 日本

    1.一種微波激勵型電漿處理設備,用以由一微波天線輻射微波並以之輻射處理氣體,以產生其電漿並使得所產生電漿作動在基材(3)上,該設備包含:一真空室(1),具有一孔徑(2)形成穿過其頂壁,一處理桌(4),安排在該孔徑(2)下,用以支持該基材(3),及一微波引入窗(7),安排在該頂壁之孔徑(2)上,以在真

  • 耐損耗性或耐損耗性及氣體切斷性優異之排煙處理設備用鋼材與排氣導管

    公告號:200521252 - 新日本製鐵股份有限公司 NIPPON STEEL CORPORATION 日本

    1.一種耐損耗性優異之排煙處理設備用鋼材,以質量%計,含有:C:0.001~0.2%;Cu:0.1~1%;Ni:0.01~0.5%;Cr:4.0~9.0%;Sb:0.01~0.2%,且以質量%計,含有:Mo:0.005~0.5%;W:0.005~0.5%;之1種或2種,並且殘留物係由Fe及不可避免之