汙水處理設備



  • 污染控制的方法及裝置以及使用該方法及裝置之基板處理設備的空調系統

    公告號:200409891 - 三星電子股份有限公司 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 韓國

    1.一種污染控制裝置,其係包括:含有至少一個噴嘴的噴水器;定義空氣流通道的消除器,該通道暴露在所述至少一個噴嘴中,使得流過通道的空氣流將與所述至少一個噴嘴所噴出的水接觸,從而污染物從空氣中移除;以及一個連接在所述噴水器、將水供應到噴水器的循環器,該水經由所述至少一個噴嘴噴到所述的消除器中,所述循環器

  • 結合類比與數位的撥鏈器位置處理設備

    公告號:200410865 - 島野股份有限公司 SHIMANO INC. 日本

    1.一種撥鏈器位置處理設備,包含:一撥鏈器移動構件,與撥鏈器一起移動;一類比訊號提供機構,操作性地連接於該撥鏈器移動構件,其中該類比訊號提供機構回應該撥鏈器移動構件的移動而提供一類比位置訊號;及一數位訊號提供機構,操作性地連接於該撥鏈器移動構件,其中該數位訊號提供機構回應該撥鏈器移動構件的移動而提供

  • 半導體製造中長時間批次處理設備之前站派工方法及系統

    公告號:200412518 - 台灣積體電路製造股份有限公司 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD. 新竹市新竹科學工業園區園區三路一二一號

    1.一種半導體製造中長時間批次處理設備之前站派工方法,包括下列步驟:依據一長時間批次處理設備之一處理能力,檢索具有相應該處理能力之一前站處理能力之複數候選前站機台;由該等候選前站機台中選擇一預約前站機台;檢索相應該預約前站機台之複數批貨;將該等批貨進行分組與排序,從而得到複數批次,其中該等每一批次包

  • 用處理溶液來處理基板的處理設備

    公告號:200414290 - 佳能股份有限公司 CANON KABUSHIKI KAISHA 日本

    1.一種處理設備,其包含用處理溶液處理的一基板,包括:貯存處理溶液的一處理容器;將基板握持在該處理容器內的一握持機構;一振盪源,其安排在垂直於被該握持機構握持的基板表面的方向中的一既定位置;以及使被握持機構握持的基板旋轉的一構造。 2.如申請專利範圍第1項之設備,其中該構造將旋轉力經由一實體構件傳到

  • 有機廢物現場蠕虫堆肥處理設備與方法

    公告號:200413272 - 李昌鎬 LEE, CHANG HO 韓國 全成均 JEON, SUNG-KYUN 韓國 東園教育財團 DONGWON EDUCATION FOUNDATION 韓國

    1.一種使用蚯蚓之有機廢物現場蠕虫堆肥處理設備,此設備包括:一給料單元,安裝在一框架上部,沿縱向在一容室內往復移動,用以研磨有機廢物,並利用往復移動將磨碎的有機廢物丟入該容室;一糞便分離單元,沿縱向安裝在該容室下部,並經旋轉以排放糞便;以及一吸引單元,安裝在該容室上部之一側,可將具有甜味的液態物質噴

  • 基板清洗裝置及基板處理設備

    公告號:200413112 - 夏普股份有限公司 SHARP KABUSHIKI KAISHA 日本

    1.一種基板清洗裝置,其包含:一第一清洗室,其包括一用於清洗被置放於其中之一基板的第一清洗部分;及一第二清洗室,其包括一用於清洗被配備於其中之一基板的第二清洗部分;其中該第一清洗室被堆疊於該第二清洗室上,使得該第一清洗室之至少一部分重疊該第二清洗室之至少一部分。 2.如申請專利範圍第1項之基板清洗裝

  • 清潔片材及基板處理設備之清潔方法

    公告號:200415720 - 日東電工股份有限公司 NITTO DENKO CORPORATION 日本

    1.一種清潔片材,包括其中F - 、Cl - 、Br - 、NO 2 - 、NO 3 - 、PO 4 3- 、SO 4 2- 、Na + 、NH 4 + 及K + 各可利用純水以不大於20 ppm(在120℃於沸騰下萃取1小時)之量萃取之清潔層。 2.一種清潔片材,包括層合於清潔層上之可釋離保護膜,

  • 大氣壓機械臂處理設備

    公告號:200414986 - BOC集團公司 THE BOC GROUP, INC. 美國

    1.一種用於加工半導體晶圓之半導體製造系統,該系統包含一半導體製造工具及相關聯之大氣壓機械臂處理設備,其中:該半導體製造工具具有一真空中央處理機、一第一加載互鎖室、一第二加載互鎖室、及一晶圓處理機械臂;該真空中央處理機給出至一個或多個用於加工該等半導體晶圓之處理腔室的進出;該第一及第二加載互鎖室在該

  • 排煙污染處理設備

    公告號:200417676 - 諸瑞青 臺北市信義區吳興街六○○巷七十六弄六十八號五樓

    1.一種排煙污染處理設備,用以淨化處理一排煙源產生之排煙廢氣,該設備包括:一進氣單元,供外界空氣進入;一廢氣引入單元,分別連通該排煙源及該進氣單元,以令該排煙源產生之廢氣與該進氣單元內之空氣混合,而產生冷凝污水;一儲水單元,儲存該冷凝污水;及一污水過濾單元,自該儲水單元輸入該冷凝污水,經過濾後將獲得

  • 電暈處理設備

    公告號:200421684 - 凌嘉科技股份有限公司 臺中市南屯區工業區二十三路三十八號

    1.一種電暈處理設備,包括有:一電源,係提供充足的電力者;一高壓電路系統,係與該電源相連接,且會將電力提高至預設正電壓,另在高壓電路系統內裝設有中點接地,利用該中點接地產生預設的負電壓者;一正電極板,係與該高壓電路系統相連接,且會將導引該高壓電路系統上的預設正電壓;一負電極板,係與該高壓電路系統相連

  • 基板處理設備及方法

    公告號:200425223 - 蘭姆研究公司 LAM RESEARCH CORPORATION 美國

    1.一種應用蒸汽至一基板表面的方法,包含:a).將該基板繞著其中心點旋轉,該基板具有一圓周邊緣;b).使用一蒸汽流於該基板上,該蒸汽流係一開始使用於該中心點至該基板的圓周邊緣之間之一點;以及c).將該蒸汽流以相對於使用該蒸汽流之基板面積的相關速率在中心點與該圓周邊緣之間之一點移動。 2.如申請專利範

  • 處理設備

    公告號:200426892 - 佳能股份有限公司 CANON KABUSHIKI KAISHA 日本

    1.一種具有一第一電極及一第二電極的處理設備,其將基材安排在該第一電極與第二電極之間且經由一化學溶液與該基材供應電流於該第一與第二電極之間用以處理該基材,該處理設備包含:一蓮蓬頭,其被安排在該第一電極與該基材之間用以形成一淋浴形式的化學溶液流朝向該基材,其中由該蓮蓬頭所形成之淋浴形式的該化學溶液流會

  • 使用外部存儲裝置的媒體處理設備

    公告號:200426605 - 科技切割股份有限公司 TELECHIPS INC. 韓國

    1.一種使用外部存儲裝置的媒體處理設備,其包括:存儲裝置存取模組,用於提供通過某種傳輸媒介對外部存儲裝置的存取;資訊獲取模組,用於獲取輸入信號;程式記憶體模組,用於存儲用於所述媒體處理設備的系統程式;系統記憶體模組,用於爲所述媒體處理設備的操作提供記憶體空間;信號處理模組,用於:根據一第一信號處理方

  • 超臨界晶圓處理設備之去污技術

    公告號:200426545 - 東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED 日本

    1.一種基板結構處理方法,包含:a.用一超臨界清潔液,以保養在一室內且包含一基板材料與其上之殘留物的一第一基板結構,該超臨界清潔液包含超臨界二氧化碳以及一界面活性劑;b.將該界面活性劑及該殘留物之相當大部分自該基板材料上移開,其中殘留界面活性劑仍留於該室內;以及c.自該室內移除該殘留界面活性劑。 2

  • 真空處理設備之真空室

    公告號:200428495 - 優貝克科技股份有限公司 ULVAC, INC. 日本

    1.一種用於真空處理設備之真空室,其中該真空室可以自由地分割成一框狀多角形內室主體;一多角形側框架,其具有一開口且可拆卸地緊密連結至具開口的內室主體之至少一側上;每一頂板,係連結到內室主體的每一頂面及具有一開口的側框架上;及每一底板,係連接到內室主體的每一底面及具有一開口的側框架上。 2.如申請專利