汙水處理設備



  • 立式熱處理設備之石英構件上沉積之金屬汙染物的移除

    公告號:I424973 - 東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED 日本 JP

    1.一種在立式熱處理設備之石英構件表面上含鋁之金屬汙染物的移除時清理該石英構件之方法,該立式熱處理設備係用於半導體製程,並包含:反應管,用以容納多數之目標基板;晶舟,用以在該反應管內間隔堆疊該基板;及熱絕緣圓筒,用以在該反應管內置放該晶舟;且該石英構件係選自於由該反應管、該晶舟、及該熱絕緣圓筒所組成

  • 含氨氮廢水之處理設備

    公告號:M478683 - 東虹工程股份有限公司 EASTERN RAINBOW ENGINEERING CO., LTD. 臺北市松山區光復南路1號11樓 TW

    1.一種含氨氮廢水之處理設備,包括:一氣提塔,具有一液體入口、一液體出口、一氣體入口、一氣體出口及一氣提室與該液體入口、液體出口、氣體入口及氣體出口連通,該液體入口係供一含氨氮廢水流入該氣提室,該氣體入口係供一氣提氣體流入該氣提室而對含氨氮廢水進行氣提,含氨氮廢水經氣提後成為氣提後廢水,氣提氣體於氣

  • 廢水蒸發回收與濃縮結晶處理設備

    公告號:M481390 - 李正春 LEE, CHENG CHUN 桃園縣蘆竹市五福一路28巷20號 TW; 高鴻遠 KAO, HUNG YUAN 臺北市文山區羅斯福路6段340號6樓 TW

    1.一種廢水蒸發回收與濃縮結晶處理設備,包含有:一熱風系統包括一經由熱風管路輸送空氣之風機,該熱風管路依序通過一乾燥箱、一氣體冷凝器及一氣體加熱器,再通入風機;一熱泵系統包括一經由冷媒管路壓送冷媒之壓縮機,該冷媒管路依序經過熱風管路之氣體加熱器及氣體冷凝器,再通入壓縮機;一用於輸送廢水之廢水輸送管路

  • 廢氣處理設備之灑水裝置

    公告號:M490353 - 漢科系統科技股份有限公司 新竹市香山區東華路14號8樓之1 TW

    1.一種廢氣處理設備之灑水裝置,該廢氣處理設備包含一用以洗滌廢氣的洗滌裝置,該灑水裝置適用於配合該洗滌裝置而安裝,並包含一連通水源且伸置於該洗滌裝置中的主管,及多個相間隔地在該洗滌裝置中與該主管連接,並能分別呈不同角度灑水的噴頭。 2.如請求項1所述廢氣處理設備之灑水裝置,其中,該洗滌裝置包括一圍繞

  • 整合水分去除與乾燥之處理設備

    公告號:M512208 - 弘塑科技股份有限公司 新竹市香山區中華路6段89號 TW

    1.一種整合水分去除與乾燥之處理設備,包括:一處理室,用以在同一製程內完成晶圓上的水分去除及晶圓乾燥;一溶劑供給回收單元,經由一循環管線連接至所述處理室;一氣體供給單元,經由一進氣管線連接至所述處理室;及一控制單元,與所述處理室、所述溶劑供給回收單元及所述氣體供給單元電性連結,用以在置入經高潔淨水清

  • 生活污水之脫氮處理設備

    公告號:M513208 - 沈堯堅 臺北市中正區金門街44巷2號5樓 TW

    1.一種生活污水之脫氮處理設備,係設有外槽體,該外槽體內依序設有第一厭氣槽、第二厭氣槽、曝氣槽、沉澱槽及消毒槽,其中該外槽體之一側壁面上設有進流管延伸入該第一厭氣槽內,該第一厭氣槽內設有接觸濾材,該第一厭氣槽內注入有生物助劑A,該第一厭氣槽內設有第一導流管,該第一導流管之一端係設於該第一厭氣槽之槽底

  • 含氟及矽之廢水之前處理方法,及含氟及矽之廢水之處理設備

    公告號:I529138 - 神鋼環境舒立淨股份有限公司 KOBELCO ECO-SOLUTIONS CO., LTD. 日本 JP

    1.一種含氟及矽之廢水之前處理方法,其係將鈣化合物添加於含氟及矽之廢水中,將該廢水進行凝集沉澱處理之廢水處理之前處理方法;其係具備以下之步驟:使前述廢水之pH成為3以上6以下般地,在前述廢水中添加鹼性鈉化合物使矽氟化鈉析出之第1步驟、將以前述第1步驟所析出之矽氟化鈉固液分離並除去之第2步驟。 2.如

  • 半導體基板之化學溶液處理設備

    公告號:200300978 - NEC電子股份有限公司 NEC ELECTRONICS CORPORATION 日本 關東化學股份有限公司 日本

    1.1.一種半導體基板之化學溶液處理設備,係藉由一化學溶液而溶解並去除附著於該半導體基板的釘基金屬,包含:一化學溶液處理單元,用以使該半導體基板與該化學溶液接觸;一儲存單元,用以儲存該化學溶液處理單元所使用之該化學溶液;及一化學溶液循環系統,其包括該儲存單元、一用以將該儲存單元之中的化學溶液供應至該

  • 電漿處理設備

    公告號:200301934 - 東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED 日本

    1.1.一種電漿處理設備,包含:一腔室(2),具有多個元件,一工件係於該腔室中被施以一特定處理;一第一電極(15a),裝設成該等元件之一且電性接地;一第二電極(15b),裝設成該等元件之一且供有一第一及一第二射頻電功率;及該腔室(2)之一特定區域,包含有藉由施加該第二射頻功率至該第二電極(15b)而

  • 控制有關材料處理設備污染物之保護覆蓋物

    公告號:200302189 - 艾倫 羅森倫茲 ALAN ROSENKRANZ 美國

    1.1.一種保護覆蓋物,其適可包圍一材料處理設備的至少一部份以容納與該材料處理設備相關之污染物,該覆蓋物係包含:一第一及一第二段,其間適可容許接合一材料處理設備;及該等第一及第二段各為可釋放式互相附接。 2.2.如申請專利範圍第1項之保護覆蓋物,其中該等第一及第二段各包含至少一片的一可撓大致氣密性材

  • 金屬板之表面處理設備,金屬板之製造方法及金屬板之製造裝置

    公告號:200306891 - 日本鋼管股份有限公司 NKK CORPORATION 日本

    1.1.一種金屬板之表面處理設備,其具有將平均粒徑30~300μm的固體顆粒噴射於連續搬送之金屬板的至少一台的離心式噴射裝置,上述至少一台的噴射裝置,具有具備旋轉軸的離心轉子,垂直於上述旋轉軸的平面及金屬板的面的交線,係配置為相對於金屬板的行進方向平行或是傾斜配置為形成45度以下的角度。 2.如申請

  • 資訊記錄方法與設備、資訊處理設備、資訊記錄系統與電腦可讀取儲存媒體

    公告號:200307914 - 理光股份有限公司 RICOH COMPANY, LTD. 日本

    1.1.一種在資訊記錄媒體上記錄資訊的資訊記錄方法,其特徵為:第一步是反應跟隨在資訊記錄媒體上記錄仿真資料的處理請求,取得與在資訊記錄媒體上記錄資訊之資訊記錄設備之驅動電源相關的驅動電源資訊;以及第二步是根據驅動電源資訊,決定是允訐或禁止跟隨在資訊記錄媒體上記錄仿真資料的處理。 2.如申請專利範圍第

  • 用於記錄限流資料於儲存裝置中之資訊處理設備

    公告號:200402632 - 東芝股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA 日本

    1.一種將串流資料記錄在一儲存裝置中之資訊處理設備,包含:一用以傳輸各種資料之第一匯流排;一第一處理器,該處理器管理以一檔案記錄在儲存裝置中之資料;一接收器,該接收器接收外界所供應之串流資料;一用以傳輸接收器所接收之串流資料之第二匯流排;一第三匯流排,該匯流排是以電氣方式連接至儲存裝置;以及一第二處

  • 廢棄物處理設備

    公告號:200404623 - 吳閏錫 OH, YUN-SEOK 韓國

    1.一種廢棄物處理設備,包括:一輸入傳送裝置,傳輸廢棄物並將其輸送至一碾碎裝置;該碾碎裝置,碾碎由該輸入傳送裝置傳送來之廢棄物;一菌株注入裝置,其係將菌株注入至該碾碎裝置之廢棄物中,以促進該廢棄物分解;一第一輸送裝置,將該碾碎裝置輸出之碾碎物傳送至一壓縮裝置;該壓縮裝置,其係壓縮該第一輸送裝置輸送之

  • 資料處理設備中管線間之同步化

    公告號:200409023 - ARM股份有限公司 ARM LIMITED 英國

    1.一種資料處理設備,至少包含:一種可操作的主要處理器用以執行一串指令,該主要處理器包含具有一第一多個管線層的一第一管線;一種可操作的共同處理器用以執行上述指令串中的共同處理器指令,該共同處理器包含具有一第二多個管線層的一第二管線,且每個共同處理器指令被安排路徑通過該第一管線與該第二管線;至少一同步