基板處理裝置及基板處理方法 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
申請人· 東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED 日本 JP


專利信息

專利名稱 基板處理裝置及基板處理方法
公告號 I517292
公告日 2016/01/11
證書號 I517292
申請號 2012/12/25
國際專利分類號
公報卷期 43-02
發明人 寺本聰寬 TERAMOTO, AKIHIRO; 林德太郎 HAYASHI, TOKUTAROU
申請人 東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED 日本 JP
代理人 周良謀; 周良吉
優先權 日本 2012-026387 20120209
參考文獻 JP9-138256A; JP11-26539A; JP2001-22423A; JP2005-19963A; JP2006-351884A; JP2010-272743A; US2009/0003825A1
審查人員 林隆泰

專利摘要

本發明係藉由取得固持構件上的基板之偏移量,以將基板在偏移量收斂於容許範圍的狀態下傳遞至其他模組。搬運叉3A從一個模組(加熱模組)接受晶圓W時,求取自搬運叉3A上的基準位置之偏移量,並於此偏移量收斂於容許範圍時,藉由搬運臂A3將晶圓W搬運至其他模組(溫調模組),在偵測值偏離容許範圍時,搬運至暫存模組71。搬運臂A3先將該晶圓W傳遞至暫存模組71,其後再接受該晶圓W,以使該偏移量收斂於容許範圍,所以能將基板在偏移量收斂於容許範圍的狀態下傳遞至溫調模組。


專利範圍

1.一種基板處理裝置,其特徵在於包含:基板搬運機構,其具有自由移動之基台與設於該基台且用以固持基板之固持構件,以將基板從一個模組傳遞至其他模組;偵測部,於固持構件從一個模組接受基板之後,搬運至其他模組之前,為了偵測固持構件上的基板之位置而設於該基板搬運機構之該基台;運算部,依據該偵測部之偵測結果,求出固持構件上的基板相對於基準位置之偏移量;暫存模組,用來暫存該基板搬運機構從該一個模組接受的基板;以及控制部,比較該運算部所獲得的偏移量之偵測值與偏移量之容許範圍,並輸出控制信號,俾:於偵測值收斂於該容許範圍時,藉由基板搬運機構將基板搬運至其他模組;而於偵測值脫離該容許範圍時,使基板搬運機構先將該基板傳遞至暫存模組,而後再接受該基板,以使該偵測值收斂於該容許範圍,該偵測部包含一成對之光源與受光部,其為了偵測位於後退位置之該固持構件所固持之基板之周緣部,而設置成從上下夾住該基板。 2.如申請專利範圍第1項之基板處理裝置,其中,該固持構件包含設置成彼此上下重疊之第1固持構件與第2固持構件,該偵測部於該第1固持構件與該第2固持構件之其一在固持基板之狀態下後退時,偵測該基板之周緣部之位置。 3.如申請專利範圍第1項之基板處理裝置,其對於每個其他模組均設定有該偏移量之容許範圍,並包含:記憶部,將該容許範圍與其他模組相對應並加以記憶。 4.如申請專利範圍第1或2項之基板處理裝置,其中,該偵測部在沿著周方向彼此取出間隔的3處以上位置,以光學方式偵測固持構件上的基板之周緣部位置。 5.如申請專利範圍第1或2項之基板處理裝置,其中,該控制部至少於基板搬運機構從暫存模組接受基板時修正固持構件之傳遞位置,以使該偏移量之偵測值收斂於該偏移量之容許範圍。 6.如申請專利範圍第1或2項之基板處理裝置,其中,該偵測部於固持構件從暫存模組接受基板之後、搬運至其他模組之前,再度偵測固持構件上的基板之位置,該控制部依據該偵測結果,比較該運算部所獲得的偏移量之偵測值與偏移量之容許範圍來輸出控制信號,俾:於偵測值收斂於該容許範圍時,藉由基板搬運機構將基板搬運至其他模組;而於偵測值脫離該容許範圍時,使基板搬運機構先將該基板再度傳遞至暫存模組,而後再接受該基板,以使該偵測值收斂於該容許範圍。 7.如申請專利範圍第1或2項之基板處理裝置,其中,該偏移量係為:位於固持構件上的基準位置之基板中心、與依據偵測部之偵測結果而


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專利資訊及圖示來源: 中華民國專利資訊檢索系統