自脫鹽裝置中移除離子物質之方法 METHOD FOR REMOVING IONIC SPECIES FROM DESALINATION UNIT
申請人· 奇異電器公司 GENERAL ELECTRIC COMPANY 美國 US


專利信息

專利名稱 自脫鹽裝置中移除離子物質之方法
公告號 I529010
公告日 2016/04/11
證書號 I529010
申請號 2010/03/18
國際專利分類號
公報卷期 43-11
發明人 熊日華 XIONG, RIHUA; 蔡巍 CAI, WEI; 夏皮洛 安德魯 菲力普 SHAPIRO, ANDREW PHILIP; 張呈乾 ZHANG, CHENGQIAN; 席維 詹姆斯 曼尼歐 SILVA, JAMES MANIO; 夏子君 XIA, ZIJUN; 張偉明 ZHANG, WEIMING
申請人 奇異電器公司 GENERAL ELECTRIC COMPANY 美國 US
代理人 陳長文
優先權 美國 12/411,443 20090326
參考文獻 TW200743642; DE4313634A1; WO2006/031732A2; WO2008/094367A1
審查人員 周永泰

專利摘要

本發明係關於一種自脫鹽裝置移除離子物質之方法,其包括:(a)使一洗滌流在包括一脫鹽裝置及一沉澱裝置之一密閉回路中循環,該洗滌流係以至少5 cm/秒之線速度流經該脫鹽裝置,在通過該脫鹽裝置後,該洗滌流之鹽濃度變高;及(b)在該沉澱裝置中,藉由沉澱自該洗滌流中移除一部份硫酸鈣,以獲得在約1.0至約3.0範圍內之進入該脫鹽裝置之該洗滌流中之硫酸鈣過飽和度。


專利範圍

1.一種自脫鹽裝置移除離子物質之方法,其包括:(a)使一洗滌流在包括一脫鹽裝置及一沉澱裝置之一密閉回路中循環,該洗滌流係以至少5cm/秒之線速度流經該脫鹽裝置,該洗滌流包含硫酸鈣,在通過該脫鹽裝置後,該洗滌流之鹽濃度變高,且該洗滌流於該沉澱裝置中之駐留時間為約3分鐘至約300分鐘;(b)在該沉澱裝置中,藉由沉澱自該洗滌流中移除一部份硫酸鈣;(c)從該沉澱裝置中移除廢料流並對該沉澱裝置提供補償流以維持在約1.0至約3.0範圍內之進入該脫鹽裝置之該洗滌流中之硫酸鈣過飽和度,其中該廢料流包括一液體,該液體之體積相當於饋送至該脫鹽裝置之進料流總體積的約0.5至約30%;及(d)在將該脫鹽裝置之輸出物流自該洗滌流切換至該回收流之前,將該脫鹽裝置之輸入物流自該洗滌流切換至該進料流,該回收流具有相較於該進料流而言較低之離子物質之濃度。 2.如請求項1之方法,其中該脫鹽裝置為以放電模式操作之一超電容脫鹽裝置。 3.如請求項2之方法,其中該脫鹽裝置另外至少定期地以充電模式操作,其中在通過該脫鹽裝置後,一進料流之鹽濃度變低。 4.如請求項3之方法,其中該放電模式與該充電模式交替。 5.如請求項1之方法,其中於該沉澱裝置中之一部份硫酸鈣係作為廢料流移除。 6.如請求項1之方法,其中該液體之體積相當於饋送至該脫鹽裝置之進料流總體積之約1至約20%。 7.如請求項1之方法,其中該液體之體積相當於饋送至該脫鹽裝置之進料流總體積的約1至約10%。 8.如請求項1之方法,其中該液體之體積相當於饋送至該脫鹽裝置之進料流總體積的約1至約5%。 9.如請求項5之方法,其中該廢料流包括硫酸鈣固體。 10.如請求項1之方法,其中進入該脫鹽裝置之該洗滌流中之硫酸鈣的過飽和度為約1.0至約2.0。 11.如請求項1之方法,其中進入該脫鹽裝置之該洗滌流中之硫酸鈣的過飽和度為約1.0至約1.5。 12.如請求項1之方法,其中該洗滌流於該脫鹽裝置中之線速度為約5cm/sec至約100cm/sec。 13.如請求項1之方法,其中該洗滌流於該脫鹽裝置中之線速度為約5cm/sec至約50cm/sec。 14.如請求項1之方法,其中該洗滌流於該沉澱裝置中之駐留時間為約3分鐘至約60分鐘。 15.如請求項1之方法,其中該沉澱裝置包括攪拌槽、沉降槽、及淨化裝置中之至少一者。 16.如請求項1之方法,其中該脫鹽裝置為一電滲析脫鹽裝


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