石墨膜之製造方法及碳化膜之製造方法 METHOD OF PRODUCING GRAPHITE FILM AND METHOD OF PRODUCING CARBONIZED FILM
申請人· 鐘化股份有限公司 KANEKA CORPORATION 日本 JP


專利信息

專利名稱 石墨膜之製造方法及碳化膜之製造方法
公告號 I529127
公告日 2016/04/11
證書號 I529127
申請號 2012/03/16
國際專利分類號
公報卷期 43-11
發明人 太田雄介 OHTA, YUSUKE; 稻田敬 INADA, TAKASHI; 三代真琴 MISHIRO, MAKOTO; 西川泰司 NISHIKAWA, YASUSHI
申請人 鐘化股份有限公司 KANEKA CORPORATION 日本 JP
代理人 陳長文
優先權 日本 2011-061495 20110318
參考文獻 JP2004-299937A; US4,915,984
審查人員 廖學章

專利摘要

本發明之課題在於利用包括將長度方向上連續之高分子膜連續煅燒之連續碳化步驟的石墨膜之製造方法,可抑制伴隨碳化收縮之褶皺或波紋。藉由設置2階段以上之加熱空間連續地進行煅燒,可獲得抑制褶皺或波紋之石墨片材。尤其是,若於各加熱空間之間存在冷卻空間,則可獲得平坦性優異、熱擴散率較高之石墨膜。


專利範圍

1.一種石墨膜之製造方法,其包括:連續碳化步驟,其包含將高分子膜供給至2階段以上之加熱空間,該空間之每一者之溫度在500℃以上900℃以下之範圍內,以獲得碳化膜;石墨化步驟,其係於2400℃以上之溫度下對碳化膜進行加熱,以獲得石墨膜。 2.如請求項1之石墨膜之製造方法,其中上述加熱空間之溫度在高分子膜之熱分解起始溫度以上且未達高分子膜之熱分解結束溫度之範圍內。 3.如請求項1之石墨膜之製造方法,其中於上述連續碳化步驟中存在至少一個冷卻空間。 4.如請求項1之石墨膜之製造方法,其中接近之加熱空間之溫度差在5℃以上200℃以下之範圍內。 5.如請求項1之石墨膜之製造方法,其中通過各加熱空間前後之膜之重量減少率為25%以下。 6.如請求項1之石墨膜之製造方法,其中連續碳化步驟中所使用之高分子膜之雙折射為0.10以上。 7.一種碳化膜之製造方法,其包括連續碳化步驟,該步驟包含將高分子膜供給至2階段以上之加熱空間,該空間之每一者之溫度在500℃以上900℃以下之範圍內,以獲得碳化膜。 8.如請求項7之碳化膜之製造方法,其中上述加熱空間之溫度在高分子膜之熱分解起始溫度以上且未達高分子膜之熱分解結束溫度之範圍內。 9.如請求項7之碳化膜之製造方法,其中於上述連續碳化步驟中存在至少一個冷卻空間。 10.如請求項7之碳化膜之製造方法,其中接近之加熱空間之溫度差在5℃以上200℃以下之範圍內。 11.如請求項7之碳化膜之製造方法,其中通過各加熱空間前後之膜之重量減少率為25%以下。 12.如請求項7之碳化膜之製造方法,其中連續碳化步驟中所使用之高分子膜之雙折射為0.10以上。


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專利資訊及圖示來源: 中華民國專利資訊檢索系統