載置單元及處理系統 LOADING UNIT AND PROCESSING SYSTEM
申請人· 東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED 日本 JP


專利信息

專利名稱 載置單元及處理系統
公告號 I517286
公告日 2016/01/11
證書號 I517286
申請號 2012/04/19
國際專利分類號
公報卷期 43-02
發明人 戶羽勝也 TOBA, KATSUYA
申請人 東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED 日本 JP
代理人 林秋琴; 何愛文
優先權 日本 2011-094365 20110420
參考文獻 JP2010-86986A; US5447294; US5810538
審查人員 詹利澤

專利摘要

本發明關於一種載置單元及處理系統,該載置單元係使保持有複數片基板之基板保持具相對於處理容器作升降,其具備有:載置用框體;升降機構,係使基板保持具升降;擋門部,係關閉處理容器的開口部;基板移載機構,係用以進行基板的移載;第1區劃箱,係圍繞升降機構並圍繞其移動範圍般所設置;第2區劃箱,係連結於第1區劃箱,而圍繞基板移載機構與其移動範圍般所設置;以及第3區劃箱,係連結於第1區劃箱,而圍繞擋門部般所設置;其中,第1區劃箱係設置有對第1區劃箱的內側噴射冷卻氣體之冷卻氣體噴射機構。


專利範圍

1.一種載置單元,係為了對基板施予熱處理,而使保持有複數片該基板之基板保持具相對於下端呈開口且藉由蓋體被封閉的筒體狀處理容器作升降,其具備有:載置用框體,係圍繞外側整體而形成載置室;升降機構,係保持該基板保持具並使其升降;擋門部,係在該基板保持具降下時會關閉該處理容器下端的開口部;基板移載機構,係為了相對於降下後的該基板保持具進行該基板的移載而具有可升降的移載臂;第1區劃箱,係圍繞該升降機構並圍繞被升降之該基板保持具的移動範圍般所設置;第2區劃箱,係連結於該第1區劃箱,而圍繞該基板移載機構與該基板移載機構的移動範圍般所設置;以及第3區劃箱,係連結於該第1區劃箱,而圍繞該擋門部般所設置;其中,該第1區劃箱係設置有對該第1區劃箱的內側噴射冷卻氣體之冷卻氣體噴射機構;該第1區劃箱係係由內筒與外筒所構成,於該內筒與該外筒之間介設有成為冷卻氣體噴射機構之流路的間隙。 2.如申請專利範圍第1項之載置單元,其中該冷卻氣體噴射機構係具有對向於降下後的該基板保持具所設置之複數氣體噴射孔。 3.如申請專利範圍第1項之載置單元,其中該第1區劃箱與該第2區劃箱的連結部係設置有用以使內部相互連通或阻隔之開閉閘部。 4.如申請專利範圍第1項之載置單元,其中該第1區劃箱與該第3區劃箱的連結部係設置有用以使內部相互連通或阻隔之開閉閘部。 5.如申請專利範圍第1項之載置單元,其係設置有相對於該各區劃箱而用以導入非活性氣體之氣體導入口,與用以排出內部的氛圍之氣體排出口。 6.如申請專利範圍第1項之載置單元,其中該基板保持具係具有支撐該基板之晶舟與支撐該晶舟的下端部之保溫筒,且設置有在該基板保持具降下時會對應於該保溫筒而降下之輔助冷卻機構。 7.一種處理系統,其具備有:處理單元,係對基板施予熱處理;如申請專利範圍第1項之載置單元,係設置於該處理單元的下方;以及儲存單元,係並排設置於該載置單元,來使收納有複數片該基板之基板容器待機。


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專利資訊及圖示來源: 中華民國專利資訊檢索系統