基板位置對準裝置、基板位置對準方法及層疊型半導體之製造方法
申請人· 尼康股份有限公司 NIKON CORPORATION 日本 JP


專利信息

專利名稱 基板位置對準裝置、基板位置對準方法及層疊型半導體之製造方法
公告號 I517290
公告日 2016/01/11
證書號 I517290
申請號 2009/08/31
國際專利分類號
公報卷期 43-02
發明人 岡本和也 OKAMOTO, KAZUYA; 堀越崇廣 HORIKOSHI, TAKAHIRO
申請人 尼康股份有限公司 NIKON CORPORATION 日本 JP
代理人 陳傳岳; 郭雨嵐
優先權 日本 2008-221265 20080829 日本 2008-256804 20081001
參考文獻 TW200815953A; JP2005-251972A; US6214692B1
審查人員 陳建丞

專利摘要

提供一種基板位置對準裝置,具備:第一載台,將互相面對之一對基板之一方加以保持同時往該基板之面方向移動;第二載台,將一對基板之另一方加以保持;第一顯微鏡,對於保持於第二載台之基板之對準標記進行觀察;第二顯微鏡,對於保持於第一載台之基板之對準標記進行觀察;校準標誌,從第一顯微鏡及第二顯微鏡共同觀察;及位置對準控制部,根據第一顯微鏡及第二顯微鏡之相對位置、第一位置資訊及第二位置資訊來對一對基板進行位置對準,其中該相對位置係藉由第一顯微鏡及第二顯微鏡來觀察校準標誌而取得的,該第一位置資訊指出藉由第二顯微鏡觀察到的對準標記之位置,該第二位置資訊指出藉由第一顯微鏡觀察到的對準標記之位置。


專利範圍

1.一種基板位置對準裝置,具備:第一載台,將互相面對之一對基板之一方加以保持同時往該基板之面方向移動;第二載台,將前述一對基板之另一方加以保持;第一顯微鏡,對於保持於前述第二載台之基板之對準標記進行觀察;第二顯微鏡,對於保持於前述第一載台之基板之對準標記進行觀察;校準標誌,係從前述第一顯微鏡及前述第二顯微鏡共同觀察的校準標誌;及位置對準控制部,根據前述第一顯微鏡及前述第二顯微鏡之相對位置、第一位置資訊及第二位置資訊來對前述一對基板進行位置對準,其中該相對位置係藉由前述第一顯微鏡及前述第二顯微鏡來觀察前述校準標誌而取得的,該第一位置資訊指出藉由前述第二顯微鏡觀察到的對準標記之位置,該第二位置資訊指出藉由前述第一顯微鏡觀察到的對準標記之位置。 2.如申請專利範圍第1項之基板位置對準裝置,更具備校準控制部,該校準控制部藉由前述第一顯微鏡及前述第二顯微鏡來觀察前述校準標誌,藉此校準前述第一顯微鏡及前述第二顯微鏡之相對位置,前述基板位置對準裝置根據利用前述校準控制部得到之校正結果以及第一位置資訊與第二位置資訊之差分來對前述一對基板進行位置對準,其中該第一位置資訊係指出藉由前述第二顯微鏡觀察到之對準標記之位置,該第二位置資訊指出藉由前述第一顯微鏡觀察到之對準標記之位置。 3.如申請專利範圍第2項之基板位置對準裝置,前述校準標誌和前述第一載台一起移動,前述校準控制部在前述第一載台停止之狀態藉由前述第一顯微鏡及前述第二顯微鏡來觀察前述校準標誌,藉此校準前述第一顯微鏡及前述第二顯微鏡之相對位置。 4.如申請專利範圍第3項之基板位置對準裝置,前述第一顯微鏡和前述第一載台一起移動。 5.如申請專利範圍第3或4項之基板位置對準裝置,前述位置對準控制部使保持著前述一對基板之一方的前述第一載台移動,對於該基板進行位置對準保持於前述第二載台之前述一對基板之另一方。 6.如申請專利範圍第2至4項中任一項之基板位置對準裝置,前述校準控制部在前述第一顯微鏡及前述第二顯微鏡之任一者移動後,校準前述相對位置。 7.如申請專利範圍第2至4項中任一項之基板位置對準裝置,前述校準控制部在前述第一顯微鏡及前述第二顯微鏡之任一者改變移動方向後,校準前述相對位置。 8.如申請專利範圍第2至4項中任一項之基板位置對準裝置,前述校準標誌包含透明基板、及附著於前述透明基板之不透明薄膜。 9.如申請專利範圍第2至4項中任一項


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專利資訊及圖示來源: 中華民國專利資訊檢索系統