反應管
申請人· 日立國際電氣股份有限公司 HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. 日本 JP


專利信息

專利名稱 反應管
公告號 D174924
公告日 2016/04/11
證書號 D174924
申請號 2015/08/21
國際專利分類號 15-99
公報卷期 43-11
發明人 立野秀人 TATENO, HIDETO; 原大介 HARA, DAISUKE
申請人 日立國際電氣股份有限公司 HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. 日本 JP
代理人 林志剛
優先權 日本 2015-003570 20150223
參考文獻 TWD133943; CN301695368S; JPD1463517; USD417438
審查人員 徐銘夆

專利摘要

【物品用途】 本設計的物品是基板處理裝置用反應管。 【設計說明】 液體原料或氣體化原料,通過噴嘴供給至反應管內,對載置於反應管內的半導體基板進行處理。本物品本體內壁具有氣體噴嘴、熱電偶保護管,是利用焊接固定在本體上。 本物品之本體、氣體噴嘴、熱電偶保護管、排氣管及反應管凸緣全部都是透明的。


專利範圍


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專利資訊及圖示來源: 中華民國專利資訊檢索系統