形成抗眩抗反射膜的方法 ANTI-GLARING AND ANTI-REFLECTING FILM
申請人· 力特光電科技股份有限公司 OPTIMAX TECHNOLOGY CORPORATION 桃園縣平鎮市平東路六五九巷三十七號


專利信息

專利名稱 形成抗眩抗反射膜的方法
公告號 200420422
公告日
證書號
申請號 2003/04/04
國際專利分類號
公報卷期 02-20
發明人 林其宏 LIN, CHYI-HUNG;賴大王 LAI, TA-WANG;王伯萍 WANG, BOR-PING;黃豐裕 HUANG, FONG-YUE;柯順祥 KE, SHUN-HSIANG;馮修敏 FENG, HSIU-MIN
申請人 力特光電科技股份有限公司 OPTIMAX TECHNOLOGY CORPORATION 桃園縣平鎮市平東路六五九巷三十七號
代理人 陳達仁;謝德銘
優先權
參考文獻
審查人員

專利摘要

形成抗眩抗反射膜的方法簡圖

本發明係關於一種形成抗眩抗反射膜的方法。根據本發明的設計,可藉由一單次塗佈的方式來形成一抗眩抗反射膜,進而達到簡化抗眩抗反射膜的製程,與提昇抗眩抗反射膜的良率等目的。更好的是,根據本發明的設計,上述的抗眩抗反射膜除了抗眩及抗反射功能之外,更可以同時具有抗污與硬膜等特性。因此,根據本發明之設計之抗眩抗反射膜的可以具有更好的產品競爭力。


專利範圍

1.一種形成抗眩抗反射膜的方法,該形成抗眩抗反射膜的方法包含:提供一底材;及以單次塗佈形成一抗眩抗反射層於該底材上,其中該抗眩抗反射層包含複數個粒子與一樹脂。
2.如申請專利範圍第1項之形成抗眩抗反射膜的方法,其中上述之抗眩抗反射層更包含一第一部份該複數個粒子自動排列於該抗眩抗反射層之最上層。
3.如申請專利範圍第2項之形成抗眩抗反射膜的方法,其中上述之抗眩抗反射層更包含一第二部份該複數個粒子分布於該第一部份該複數個粒子與該底材之間。
4.如申請專利範圍第1項之形成抗眩抗反射膜的方法,其中上述的複數個粒子包含一氟化物。
5.如申請專利範圍第1項之形成抗眩抗反射膜的方法,其中上述的複數個複數個粒子之折射率小於該樹脂之折射率。
6.一種形成抗眩抗反射膜的方法,包含:提供一底材;及形成一抗眩抗反射層於該底材上,其中該抗眩抗反射層包含一第一部份之複數個粒子自動排列於該抗眩抗反射層之最上層。
7.如申請專利範圍第6項之形成抗眩抗反射膜的方法,其中上述形成抗眩抗反射層之步驟包含一單次塗佈之製程。
8.如申請專利範圍第6項之形成抗眩抗反射膜的方法,其中上述之抗眩抗反射層更包含一樹脂位於該第一部份之複數個粒子與該底材之間。
9.如申請專利範圍第6項之形成抗眩抗反射膜的方法,其中上述之抗眩抗反射層更包含一第二部份之複數個粒子分布於該第一部份之複數個粒子與該底材之間。
10.如申請專利範圍第6項之形成抗眩抗反射膜的方法,其中上述的複數個粒子包含一氟化物。
11.如申請專利範圍第6項之形成抗眩抗反射膜的方法,其中上述之複數個粒子的組成包含重量百分比約10%~30%之氟。
12.如申請專利範圍第6項之形成抗眩抗反射膜的方法,其中上述之粒子的粒徑約為50~450 nm。
13.一種形成抗眩抗反射膜的方法,包含:提供一底材;及形成一抗眩抗反射層於該底材上,其中該抗眩抗反射層包含一第一部份複數個含氟粒子自動排列於該抗眩抗反射層之最上層與一第二部分複數個含氟粒子分布於該第一部份複數個含氟粒子與該底材之間。
14.如申請專利範圍第13項之形成抗眩抗反射膜的方法,其中上述形成抗眩抗反射層之步驟包含一單次塗佈之製程。
15.如申請專利範圍第13項之形成抗眩抗反射膜的方法,其中上述之複數個含氟粒子包含一氟矽化物(fluoro-containing silica)。
16.如申請專利範圍第13項之形成抗眩抗反射膜的方法,其中上述之複數個含氟粒子包含重量百分比約10%~30%之氟。
17.如申請專利範圍第13項之形成抗眩抗反射膜的方法,其中該抗眩抗反射層更包含一樹脂。
18.如申請專利範圍第17項之形成抗眩抗反射膜的方法,其中上述之樹脂包含一硬膜膠(hard coat resin)。
19.如申請專利範圍第17項之形成抗眩抗反射膜的方法,其中上述之該複數個粒子的折射率係小於該樹脂的折射率。
20.如申請專利範圍第13項之形成抗眩抗反射膜的方法,其中上述之底材包含三醋酸纖維素(TAC)。
21.如申請專利範圍第13項之形成抗眩抗反射膜的方法,其中上述之底材包含聚對苯二甲酸乙烯酯(polyethylene terephthalate; PET)。
22.如申請專利範圍第13項之形成抗眩抗反射膜的方法,其中在該形成該抗眩抗反射層之步驟後,更包含一成膜製程。


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