工業氣體



  • 具有水噴霧的烴/氧工業氣體之混合器

    公告號:200927278 - 陶氏科技投資有限公司 DOW TECHNOLOGY INVESTMENTS LLC 美國

    1.一種於用於一含烴氣體之氣相部分氧化之一工業製造系統中,用於混合該含烴氣體與一含氧氣體之方法,包含下列步驟:提供一用於混合該含氧氣體與該含烴氣體之氣體混合器;將一水噴霧導入該氣體混合器內;及於該水噴霧存在下混合該含氧氣體與該含烴氣體。 2.如申請專利範圍第1項之方法,其中該氣體混合器包括一烴氣歧管

  • 具有粗水滴環境以降低點燃勢能之烴/氧工業氣體混和器

    公告號:200932345 - 陶氏科技投資有限公司 DOW TECHNOLOGY INVESTMENTS LLC 美國

    1.一種在一用於一含烴氣體的氣相部份氧化之工業生產系統中,用以混合該含烴氣體與一含氧氣體之方法,包含下列步驟:提供一用以混合該含氧氣體與該含烴氣體之氣體混合器;在該氣體混合器中生成一粗水滴環境;在該粗水滴環境下混合該含氧氣體與該含烴氣體。 2.如申請專利範圍第1項之方法,其中該氣體混合器包括一攜載有

  • 用於使須經排放物控制之工業氣體渦輪操作最佳化的方法

    公告號:446795 - 陶氏化學國際有限公司 美國

    1.一種達成發電裝置之燃燒產物排放物減低之方法,該發電裝置包括一工業燃氣輪機或多部此種輪機,該方法同時提供此種裝置之預定發電程度,該方法包含以經由應用濕式壓縮至其中一或多部燃氣輪機所提供的至少等量功率增量來置換此種裝置發電量的增量。 2.如申請專利範圍第1項之方法,其中發電裝置係由多部燃氣輪機接受總

  • 工業流體用浮球開關結構

    公告號:377838 - 古晉光 台北巿信義區吳興街三六二號七樓

    1.一種工業流體用浮球開關結構,其係由一閥座、 一閥套、帽蓋、搖桿、浮球及浮球臂所組成,其中,閥座 內部閥室與入水孔為大小不等直徑的管孔,於閥室下部設 有一排水孔與長導槽,於長導槽兩側之閥座底部設有相對 之凸耳,凸耳可樞設一搖臂,搖桿之一端與浮球臂連結, 又閥室內設有閥套,該閥套可受搖桿之擺動而在閥

  • 分配工作氣體之裝置及配備此裝置用於供應工作氣體的設備

    公告號:396258 - 液態空氣 喬治斯 克勞帝方法研究開發股份有限公司 法國 阿爾卑斯自動系統公司 法國 拉貝樂企業 法國

    1.一種用以分配一工作氣體之裝置,該裝置係包括有連續的管路(15,21,23)係被連接到該工作氣體之至少一來源(5,7)之上,並且係被連接到至少一輸出管(10,10A)之上,而可用以將該工作氣體輸送到一消費站(10B),功能元件(25,25A),特別是閥門(27,29,27A,29A),係被裝設於該

  • 電化學加工HCl氣體為高純度氯之方法

    公告號:446758 - 拜耳廠股份有限公司 德國

    1.一種將HCl氣體電化學加工成高純度氯之方法,其特徵 在於HCl氣體在氣相電解階段(1)中反應獲得包含HCl氣體的氯氣, 在於消耗的液體氫氯酸作為吸收劑的吸收階段(2)中,將含HCl氯氣萃取精製形成增濃的氫氯酸,因此氯氣自HCl氣體逸出, 在於增濃的氫氯酸在液相電解階段(3)中轉化成氯氣並形成消耗

  • 用於半導體加工之氣體散布裝置

    公告號:460915 - 藍姆研究公司 美國

    1.一種氣體散布系統,其係使用在半導體基板加工用之反應器中,其包含: 一支撐構件,在其下表面係具有一凹口,該支撐構件係具有一通向該凹口之中央部位之第一氣體供應源以及一通向凹口之周緣部位之第二氣體供應源; 一隔板配置,其係定位在凹口中,使得該由第一氣體供應源流出之氣體係會流經在隔板配置中之第一開口,且

  • 供應使用於半導體製造加工之氣體的方法及裝置以及具有此裝置之製造加工設備

    公告號:I223833 - 三星電子股份有限公司 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 韓國

    1.一種用於供應在半導體製程中所使用之氣體的方法,包含如下之步驟: 首先於一第一位置阻擋經由一分配頭供應之氣體俾沿著相對於氣體之主供應方向的側供應方向擴散被阻擋的氣體; 首先把被第一次擴散的氣體導引向一工作件,在其中,氣體要被供應; 於一第二位置第二次阻擋被第一次導引的氣體俾沿著該側供應方向第二次擴

  • 工作氣體回收裝置

    公告號:M395510 - 群碁科技有限公司 臺北縣新莊市化成路120號6樓 TW

    1.一種工作氣體回收裝置,其包括:一本體,該本體內係具有一容置空間,並在該容置空間中填充有水;一輸送單元,係包含有至少一組輸送管及一導流件;該輸送管係設置在該本體之容置空間內,而該導流件係結合在該輸送管之一側,且該導流件設有至少一腔室,該腔室底部係設有排放口;以及一冷凝單元,係包含有至少一冷凝管及一

  • 放電加工機氣體回收循環系統

    公告號:M402753 - 慶鴻機電工業股份有限公司 臺中市南屯區精科一路3號 TW

    1.一種放電加工機氣體回收循環系統,配合放電加工機使用,該氣體回收系統包含:一空壓源,提供氣體;一逆止閥,一端連接該空壓源,並使氣體只能進行由該空壓源流入該逆止閥的作動方向,防止氣體回流;一儲氣瓶,與該空壓源連接,氣體由空壓源流出後流入儲氣瓶;以及一工作壓缸,以單一個氣壓管與該儲氣瓶連接,且該工作壓

  • 降低工業方法中廢氧化物氣體排放之方法

    公告號:200419108 - 羅門哈斯公司 ROHM AND HAAS COMPANY 美國

    1.一種降低工業方法中廢氧化物氣體排放之方法,其包含下列步驟:a.將廢料流引導至熱氧化器;b.於該熱氧化器之初級燃燒區中燃燒至少一部分廢料流;及c.注入至少一部分廢料流於該熱氧化器之下游廢料破壞區。 2.如申請專利範圍第1項之方法,其中該廢料流包含約至少0.5莫耳%之反應性廢料成分及至多約99.5莫

  • 用於半導體工業之氫化物氣體純化

    公告號:200515943 - 麥克羅里斯公司 MYKROLIS CORPORATION 美國

    1.一種從氫化物氣體流中移除污染物的方法,包括使氫化物氣體流與含有一數量鑭系元素族群金屬氧化物的材料接觸,以使氣體流之污染物含量降低至不多於約十億分之100(100 ppb)的程度,該材料實質上不受該氣體影響。 2.如申請專利範圍第1項所述之方法,其中鑭系金屬係選自由鑭(La)、鈰(Ce)、鐠(Pr

  • 電子工業用之元素有機化合物及藉元素有機化合物之氣態離解在基體上製造薄膜之方法

    公告號:260804 - PPM純金屬公司 德國

    1. 依式(I)之元素有機化合物 R@ss(@ss3@ss-@ssm@ss)MR'@ssm@fl (I) 式中m為1,2或3 M為磷,砷或銻 R= H, CH@ss3, C@ss2H@ss3, C@ss2H@ss5, C@ss3H@ss5, C@ss3H@ss7,i-C@ss3H@ss7, C@ss

  • 降低工業方法中廢氧化物氣體排放之方法

    公告號:I254781 - 羅門哈斯公司 ROHM AND HAAS COMPANY 美國

    1.一種降低工業方法中廢氧化物氣體排放之方法,其包含下列步驟: a.將廢料流引導至熱氧化器; b.於該熱氧化器之初級燃燒區中燃燒至少一部分廢料流;及 c.注入至少一部分廢料流於該熱氧化器之下游廢料破壞區。 2.如申請專利範圍第1項之方法,其中該廢料流包含約至少0.5莫耳%之反應性廢料成分及至多約99

  • 用於半導體工業之氫化物氣體純化

    公告號:I316871 - 恩特格林斯公司 ENTEGRIS, INC. 美國 US

    1.一種從氫化物氣體流中移除一或多種污染物的方法,包括使氫化物氣體流與含有:(a)3-20重量%之至少一種來自鑭系之金屬氧化物及(b)至少一種過渡金屬或其氧化物的材料接觸,以使氣體流之污染物含量降低至不多於約十億分之100(100ppb),該材料實質上不受該氣體影響,其中該過渡金屬係選自由鉬(Mo)