光學式異物檢測裝置及搭載此裝置之處理液塗布裝置 OPTICS FOREIGH MATERIAL SENSING DEVICE AND PROCESSING LIQUID COATING APPARATUS EQUIPPED WITH THIS
申請人· 東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED 日本


專利信息

專利名稱 光學式異物檢測裝置及搭載此裝置之處理液塗布裝置
公告號 200722187
公告日
證書號
申請號 2006/09/26
國際專利分類號
公報卷期 05-12
發明人 大塚慶崇 OTSUKA, YOSHITAKA;中滿孝志 NAKAMITSU, TAKASHI;高木貴生 TAKAKI, TAKAO;稻益壽史 INAMASU, TOSHIFUMI
申請人 東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED 日本
代理人 林志剛
優先權 日本 2005-277102 20050926
參考文獻
審查人員

專利摘要

本發明的構成是令呈水平狀態被載置在載置台2上之被處理基板1與具有向前述基板1的寬度延伸的細縫狀噴出口11b之處理液供應噴嘴11相對移動,將從處理液供應噴嘴11呈帶狀噴出之處理液塗布在基板1的表面。在與前述基板1相對移動之處理液供應噴嘴11的移動方向的前方,搭載由投光部5及受光部6所組成之透光型感測器單元。前述感測器單元的構成則是具備有:將受光器6的光束之受光輸出是否為特定値以上予以檢測出來之第1檢測手段、及將前述受光輸出的單位時間之變化量是否為特定値以上予以檢測出來之第2檢測手段,根據前述第1檢測手段與第2檢測手段之檢測輸出的邏輯和,將異物的存在檢測出來。


專利範圍

1.一種光學式異物檢測裝置,是具備:含有沿著被載置在載置台上之被處理基板的上面投射光束的投光部和受取前述光束的受光部之透光型感測器單元、及令前述感測器單元與被處理基板相對移動,而使前述光束的光軸沿著被處理基板的上面進行平行掃描之相對移動手段,其特徵為:其構成係具備有:將在前述相對移動手段的驅動狀態下,前述受光部之光束的受光輸出是否為特定值以上予以檢測出來之第1檢測手段、及將前述受光輸出的單位時間之變化量是否為特定值以上予以檢測出來之第2檢測手段,根據前述第1檢測手段與第2檢測手段之檢測輸出的邏輯和,來偵知異物的存在。 2.如申請專利範圍第1項所記載之光學式異物檢測裝置,其中,構成係前述受光部係以矩陣狀配列多數個受光格而構成,從特定受光格來選擇輸出,當作前述光束的受光輸出來應用。 3.如申請專利範圍第1或2項所記載之光學式異物檢測裝置,其中,還具備有:將前述投光部與受光部相連結之光束的直線路徑的至少上部予以覆蓋之光軸誘導體。 4.一種處理液塗布裝置,其特徵為:具備有:與被載置在載置台上之前述被處理基板相對向來相對移動,且面對前述被處理基板噴出處理液,而將處理液塗布在前述基板的表面之處理液供應噴嘴,構成係在與前述被處理基板相對移動之處理液供應噴嘴的移動方向的前方,搭載前述申請專利範圍第1或2項所記載之光學式異物檢測裝置,而將前述處理液供應噴嘴當作前述相對移動手段來應用。 5.如申請專利範圍第4項所記載之處理液塗布裝置,其中,構成係在前述處理液供應噴嘴具備有向前述基板的寬度方向延伸之細縫狀噴出開口,且將從處理液供應噴嘴的前述細縫狀噴出開口呈帶狀噴出之處理液塗布在前述基板的表面;以和前述細縫狀噴出開口的長邊方向上成平行,且沿著前述基板的最接近處投射前述光束的方式,配置前述感測器單元。 6.如申請專利範圍第4項所記載之處理液塗布裝置,其中,構成係當利用前述光學式異物檢測裝置偵如有異物存在的情況,則停止處理液供應噴嘴與前述基板的相對移動。


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專利資訊及圖示來源: 中華民國專利資訊檢索系統