具有一種三磁鐵電漿位置侷限設備的電漿反應器
申請人· 應用材料股份有限公司 美國


專利信息

專利名稱 具有一種三磁鐵電漿位置侷限設備的電漿反應器
公告號 523786
公告日 2003/03/11
證書號 173931
申請號 2001/05/18
國際專利分類號
公報卷期 30-08
發明人 亞佛瑞恩奎利斯;哈米諾爾巴積;詹姆士D 卡度希
申請人 應用材料股份有限公司 美國
代理人 蔡坤財
優先權 美國 60/205,819 20000519
參考文獻
審查人員

專利摘要

一種電漿反應器包括一室其被設計來支援一真空電漿環境,一路徑將該室連接至一在該室的外部的區域,該路徑是由其間建立了一路徑距離之相對的路徑壁所界定的,及一與該路徑相鄰之電漿侷限磁鐵組件。該電漿侷限磁鐵組件包括一短磁鐵其與兩路徑壁之一相鄰並具有彼此間隔一距離之相反磁極,該距離為間隙距離的幾分之一,該短磁鐵具有一沿著一方向的磁方位(magnetic orientation),該方向係橫跨該路徑的方向,及一長磁鐵與兩路徑壁之一相鄰並隔著該路徑大致面向該短磁鐵且具有相反磁極彼此沿著一橫跨該路徑的方向相間隔一磁極位移距離,該磁極位移距離至少與該間隙距離一樣大,該長磁鐵具有一大致與該短磁鐵的磁方位相反的磁方位。


專利範圍

1.一種電漿反應器,其至少包含: 一天花板及側壁,其界定一具有該側壁的對稱軸之真空室,該側壁具有一真空側徑向朝內地面向該室的內部; 一在該真空室內之晶圓支撐托盤,其面向該天花板並具有一托盤壁,該托盤壁具有一真空側徑向朝外地面向該側壁的一下部且至少大致與其同軸,藉以在該托盤壁與該側壁之間界定一環繞該晶圓支撐托盤的抽泵環形縫隙; 一電漿侷限三磁鐵組件,其包含: 一短磁鐵環,其與該托盤壁及側壁兩者中的一者相鄰且至少大致與該壁同軸並具有相反的磁極彼此被軸向地間隔開一距離,該距離為介於該托盤壁與該側壁之間的間隙距離的幾分之一,該獨立的環形磁鐵具有一沿著該對稱軸的方向的磁方位;及 一長形的磁鐵環,其與該托盤壁及側壁兩者中的另一者相鄰,大致面對該短磁鐵環且至少大致與該另一壁同軸並具有相反的磁極彼此被軸向地間隔開一磁極位移距離,該距離至少與該間隙距離一樣大,該長形的磁鐵環具有一沿著該對稱軸的方向相反方向的磁方位。 2.如申請專利範圍第1項所述之反應器,其中該壁為該側壁及該另一壁為該托盤壁。 3.如申請專利範圍第2項所述之反應器,其中: 該長形磁鐵環係被安裝成與該托盤壁相鄰,位在與該托盤壁的真空側相對的一側上;及 該短磁鐵環係被安裝成與該側壁相鄰,位在該側壁的真空側上。 4.如申請專利範圍第1項所述之反應器,其更包含保護性的材質於該短磁鐵環上用以保護該短磁鐵環將其與該電漿隔離。 5.如申請專利範圍第4項所述之反應器,其中該保護性材質包含在該獨立的環形磁鐵上的塗層。 6.如申請專利範圍第4項所述之反應器,其中該保護性材質包含一室襯裡覆蓋至少一部分的側壁,該磁鐵環被設置於該室襯裡中。 7.如申請專利範圍第1項所述之反應器,其中該長形磁鐵包含: 上及下環磁鐵,其彼此被間隔開該磁極位移距離,該上及下環形磁鐵之一者的磁極面向另一者的相反磁極;及 一磁性材質的支撐件,其連接於該上及下環形磁鐵的相面對磁極之間,藉此該上及下環形磁鐵之剩下來的磁極為該長形磁鐵環的磁極。 8.如申請專利範圍第7項所述之反應器,其中該上及下環形磁鐵的每一者的相反磁極都被彼此軸向間隔開,該上環形磁鐵的軸向磁方位與該下環形磁鐵的磁方位相反。 9.如申請專利範圍第1項所述之反應器,其中該短磁鐵環的磁極位移約為介於該短磁鐵環與該長形磁鐵環間的距離的十分之一。 10.如申請專利範圍第9項所述之反應器,其中該長形磁鐵環的磁極位移大於


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