高氧水、含有高氧水之生物相容性組成物及高氧水之製備方法
申請人· 禾氧生技股份有限公司 臺北市中正區銅山街7-1號1樓 TW


專利信息

專利名稱 高氧水、含有高氧水之生物相容性組成物及高氧水之製備方法
公告號 I529139
公告日 2016/04/11
證書號 I529139
申請號 2015/08/25
國際專利分類號
公報卷期 43-11
發明人 巫堂明
申請人 禾氧生技股份有限公司 臺北市中正區銅山街7-1號1樓 TW
代理人 許耀華
優先權
參考文獻 CN101218181A
審查人員 趙偉志

專利摘要

本發明提供一種高氧水,包含水及氧,其中:該高氧水之含氧量不少於20ppm;以及以該高氧水之初始含氧量為100%計,將該高氧水靜置30分鐘後之含氧量百分比(A)及將該高氧水靜置180分鐘後之含氧量百分比(B)二者間之差異(A-B)小於24%。此外,本發明亦提供含有高氧水之生物相容性組成物及高氧水之製備方法。


專利範圍

1.一種高氧水,包含水及氧,其中:以該高氧水之初始含氧量為100%計,將該高氧水靜置30分鐘後之含氧量百分比(A)及將該高氧水靜置180分鐘後之含氧量百分比(B)二者間之差異(A-B)小於24%;以及該高氧水於30℃至40℃之條件下維持120分鐘後,含氧量介於20ppm及60ppm之間。 2.如請求項1所述之高氧水,其中該差異小於20%。 3.如請求項1所述之高氧水,其中該差異小於15%。 4.如請求項1所述之高氧水,其中該差異係介於5%及20%之間。 5.如請求項1所述之高氧水,其中該高氧水於30℃至40℃之條件下維持120分鐘後,含氧量介於25ppm及60ppm之間。 6.如請求項1所述之高氧水,其中該高氧水於30℃至40℃之條件下維持120分鐘後,含氧量係介於20ppm及50ppm之間。 7.如請求項1所述之高氧水,其於30℃至40℃之條件下維持180分鐘後,含氧量介於25ppm及60ppm之間。 8.如請求項1至7中任一項所述之高氧水,其中,將該高氧水自10℃加熱至40℃後,含氧量變化小於20%。 9.如請求項8所述之高氧水,其中,將該高氧水自10℃加熱至40℃後,含氧量變化小於10%。 10.如請求項1至7中任一項所述之高氧水,其中,將該高氧水自10℃加熱至40℃後,含氧量介於25ppm及60ppm之間。 11.如請求項1至7中任一項所述之高氧水,其於30℃至40℃之條件下維持120分鐘後,含氧量變化小於30%。 12.如請求項11所述之高氧水,其於約37℃之條件下維持120分鐘後,含氧量變化小於25%。 13.如請求項1所述之高氧水,其於約37℃之條件下維持120分鐘後,含氧量介於25ppm及60ppm之間。 14.如請求項1所述之高氧水,其於約37℃之條件下可維持含氧量介於25ppm及60ppm之間至少達120分鐘。 15.如請求項1至7中任一項所述之高氧水,其於高於40℃之條件下含氧量介於25ppm及60ppm之間。 16.如請求項1至7中任一項所述之高氧水,其中,將該高氧水自5℃至10℃之初始溫度加熱至40℃至50℃之溫度後,其含氧量變化小於20%。 17.如請求項1至7中任一項所述之高氧水,其中,將該高氧水自5℃至10℃之初始溫度加熱至50℃期間,其含氧量均保持介於30ppm及60ppm之間。 18.如請求項1至7中任一項所述之高氧水,其係由水、


類似專利

公告號 專利名稱 申請人
I227673 水可溶、無序取代部份N-,部份O-乙醯化脫乙醯殼多糖,含有脫乙醯殼多糖的防腐組成物,及其製法 艾加文製藥公司 ADJUVANT PHARMACEUTICALS LLC 美國
200830049 高分子化合物之製法與藉由該製法所製造之高分子化合物、含有該高分子化合物之正型感光性組成物及使用該正型感光性組成物之圖案形成方法 富士軟片股份有限公司 FUJIFILM CORPORATION 日本
I522362 聚氧代氮代苯并環己烷及其應用與製備方法 國立中興大學 NATIONAL CHUNG-HSING UNIVERSITY 臺中市南區國光路250號 TW
I499585 新穎化合物及含有其之感放射線性組成物 JSR股份有限公司 JSR CORPORATION 日本 JP
I464152 新穎化合物、其製造方法、含有該新穎化合物之感放射線性組成物及硬化膜 JSR股份有限公司 JSR CORPORATION 日本 JP
I453260 黑矩陣用顏料分散組成物及含有此黑矩陣用顏料分散組成物之黑矩陣用顏料分散光阻組成物 阪田油墨股份有限公司 SAKATA INX CORP. 日本 JP
I446907 從藤黃樹脂所得到的分離部分以及含有此等分離部分的藥學組成物 台灣森本生物科技開發股份有限公司 TAIWAN SUNPAN BIOTECHNOLOGY DEVELOPMENT CO., LTD 桃園縣桃園市中正路1071號7樓之5 TW
I440650 聚氧代氮代苯并環己烷寡聚物及其應用與製備方法 國立中興大學 NATIONAL CHUNG-HSING UNIVERSITY 臺中市南區國光路250號 TW
I423948 光酸產生劑及其製造方法,以及含有該光酸產生劑的光阻組合物 錦湖石油化學股份有限公司 KOREA KUMHO PETROCHEMICAL CO. LTD. 南韓 KR
I395061 含有染料之負型硬化性組成物、彩色濾光片、及其製造方法 富士寫真軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD 日本 JP
I388925 含有染料之負型硬化性組成物、彩色濾光片、及其製造方法 富士寫真軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD 日本 JP
I382279 含有染料之負型硬化性組成物、彩色濾光片、及其製造方法 富士寫真軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD 日本 JP
I370187 聚(對苯二甲酸丙二酯)複絲紗線及其紡紗與製備方法、含有複絲紗線的卷裝及複絲紗線之應用 杜邦股份有限公司 E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY 美國 US
I349013 聚醯亞胺氧化鈦混成材料與其薄膜製備方法 國立台灣大學 NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY 臺北市大安區羅斯福路4段1號 TW
550065 用3-羥基丙醛來交聯及消毒一生物分子的方法和含有交聯的生物分子的生物相容性植入物、替代品或傷口敷料 嘉年生化產品有限公司 雲林縣斗六工業區斗工十二路十七號
538068 可溶性單烷基錫酸觸媒,其製備方法,以及其於製備高分子量聚酯之用途 杜邦股份有限公司 美國
402629 提供腐蝕保護之水可還原塗料組合物及其用途與製備方法 金屬塗料國際公司 美國
149589 含有羧基黏合劑之光可聚合性組成物 杜邦公司 美國
201610483 含有聚對苯二甲酸乙二酯保護膜的偏光板、其製造方法、包括其的顯示裝置及液晶顯示裝置 LG化學股份有限公司 LG CHEM, LTD. 南韓 KR

專利資訊及圖示來源: 中華民國專利資訊檢索系統