基板處理裝置用氣體供給噴嘴
申請人· 日立國際電氣股份有限公司 HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. 日本 JP


專利信息

專利名稱 基板處理裝置用氣體供給噴嘴
公告號 D174919
公告日 2016/04/11
證書號 D174919
申請號 2015/02/26
國際專利分類號 15-99
公報卷期 43-11
發明人 森田慎也 MORITA, SHINYA; 三宅正浩 MIYAKE, MASAHIRO; 寺崎昌人 TERASAKI, MASATO; 松本尙樹 MATSUMOTO, NAOKI; 赤江尙徳 AKAE, NAONORI
申請人 日立國際電氣股份有限公司 HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. 日本 JP
代理人 林志剛
優先權 日本 2014-019294 20140902
參考文獻 TW261936; TW573562; TWI324806; TWD120457
審查人員 徐銘夆

專利摘要

【物品用途】 本設計的物品是基板處理裝置用氣體供給噴嘴。 【設計說明】


專利範圍


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專利資訊及圖示來源: 中華民國專利資訊檢索系統