基板處理裝置及加載互鎖裝置
申請人· 東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED 日本 JP


專利信息

專利名稱 基板處理裝置及加載互鎖裝置
公告號 I517284
公告日 2016/01/11
證書號 I517284
申請號 2011/02/14
國際專利分類號
公報卷期 43-02
發明人 岡部星兒 OKABE, SEIJI; 鍋山裕樹 NABEYAMA, YUKI
申請人 東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED 日本 JP
代理人 林秋琴; 何愛文
優先權 日本 2010-030492 20100215
參考文獻 CN1924660A; JP2009-4508A
審查人員 林萬成

專利摘要

本發明之基板處理裝置及加載互鎖裝置係無需增加加載互鎖裝置之內容積而使其重量大幅輕量化。此加載互鎖裝置係具備有:基板收容室,係可將內部壓力於減壓環境氣氛與大氣壓環境氣氛間作切換;以及緩衝用載置台,係設置於基板收容室內,暫時載置所收容之基板;此外,緩衝用載置台係由1個或複數個緩衝構件所構成,緩衝構件係以內部中空並保持氣密的方式所構成者。


專利範圍

1.一種加載互鎖裝置,係連接於減壓環境氣氛與大氣壓環境氣氛之間,調整內部壓力而於該減壓環境氣氛與該大氣壓環境氣氛之間搬運基板;其特徵在於具備有:基板收容室,係可將內部壓力於該減壓環境氣氛與該大氣壓環境氣氛間作切換;以及緩衝用載置台,係設置於該基板收容室內,暫時載置所收容之基板;此外,該緩衝用載置台係由1個或複數個緩衝構件所構成,該緩衝構件係以內部中空並保持氣密的方式所構成;該緩衝構件具備有:中空之管構件;板體,係將該管構件之兩側的開放端加以氣密封閉;以及漏洩檢查用貫通孔,係設置於該板體之其中一側。 2.如申請專利範圍第1項之加載互鎖裝置,其中該緩衝構件之內部係處於大氣壓環境氣氛。 3.如申請專利範圍第1項之加載互鎖裝置,其中該緩衝構件之內部係處於減壓環境氣氛。 4.如申請專利範圍第3項之加載互鎖裝置,其中該緩衝構件係具備將其內部作氣密式密封之密封塞。 5.如申請專利範圍第2項之加載互鎖裝置,其中該緩衝構件具備有止回閥來防止從緩衝構件外部朝向內部之氣流。 6.如申請專利範圍第1項之加載互鎖裝置,其中該緩衝用載置台係由保有既定間隔所配置之該複數緩衝構件所構成。 7.如申請專利範圍第1項之加載互鎖裝置,其中該緩衝用載置台係包含有以鄰接設置之該複數緩衝構件為1組而使得複數組保有既定間隔來配置。 8.一種基板處理裝置,係具備有:1個或複數個腔室,係於減壓環境氣氛下對基板施行既定處理;搬運室,係與該腔室連接著,於減壓環境氣氛下和該腔室進行基板之交換;搬入搬出部,係保持於大氣壓環境氣氛,用以將該基板搬入以及搬出;以及申請專利範圍第1至7項中任一項之加載互鎖裝置。


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專利資訊及圖示來源: 中華民國專利資訊檢索系統