氫氣產生組件及氫氣純化裝置 HYDROGEN GENERATION ASSEMBLIES AND HYDROGEN PURIFICATION DEVICES
申請人· 1號組件公司 ELEMENT 1 CORP. 美國 US


專利信息

專利名稱 氫氣產生組件及氫氣純化裝置
公告號 I529124
公告日 2016/04/11
證書號 I529124
申請號 2012/07/05
國際專利分類號
公報卷期 43-11
發明人 愛德隆 大衛J EDLUND, DAVID J.
申請人 1號組件公司 ELEMENT 1 CORP. 美國 US
代理人 閻啟泰; 林景郁
優先權 美國 13/178,098 20110707
參考文獻 TW563270; TW200629635
審查人員 馮俊璋

專利摘要

本發明揭示氫氣產生組件、氫氣純化裝置及其構件,及製造彼等組件、裝置及構件之方法。在一些具體實例中,該等組件可包括具有填充材料之蒸發區,該材料經組態以使熱量自熱排出流轉移至含液體進料流,及/或隔熱基座,其相鄰於燃燒區且經組態以降低外殼之外部溫度。在一些具體實例中,該等組件可包括經組態以維持點火器組件與進料流管道熱連通之冷卻塊、包括催化塗層之點火器組件、及/或燃料流分佈組件。在一些具體實例中,該等組件可包括經組態以使熱量自外部加熱器傳導至外殼部分的導熱組件。在一些具體實例中,該等裝置可包括具有膜支撐結構之框架及/或可包括經組態以防止金屬間擴散的微孔篩網結構。


專利範圍

1.一種氫氣純化裝置,其包含:第一及第二終端框架,其包括:輸入埠,其經組態以接收含有氫氣及其他氣體之混合氣流;輸出埠,其經組態以接收含有濃度比該混合氣流中高之氫氣及濃度比該混合氣流中低之其他氣體中至少一者的滲透物流;及副產物埠,其經組態以接收含有該等其他氣體之至少相當大部分的副產物流;至少一個氫氣選擇性膜,其安置於該第一與該第二終端框架之間且緊固於該第一及該第二終端框架,該至少一個氫氣選擇性膜具有進料側及滲透物側,該滲透物流之至少部分由該混合氣流中自該進料側傳遞至該滲透物側之部分形成,保留在該進料側之該混合氣流之剩餘部分形成該副產物流之至少部分;及複數個框架,其安置於該第一及該第二終端框架與該至少一個氫氣選擇性膜之間,該複數個框架中之每一個框架均包括界定框架平面之周長殼,該周長殼具有界定其間開口區域之第一及第二相對側,該複數個框架中之每一個框架另包括至少一個自該周長殼第一側延伸至該開口區域中而未延伸至第二側之第一膜支撐結構,其中該至少一個第一膜支撐結構中之每一者與該複數個框架之其他第一膜支撐結構在第一膜支撐平面內共平面,該第一膜支撐平面垂直於該複數個框架中之每一個框架的框架平面。 2.如申請專利範圍第1項之裝置,其中該至少一個第一膜支撐結構包括經組態以接收至少一個扣件的一或多個插座,以將該複數個框架緊固於該第一及該第二終端框架。 3.如申請專利範圍第1項之裝置,其中該至少一個第一膜支撐結構與該周長殼一起形成。 4.如申請專利範圍第1項之裝置,其中該複數個框架中之每一者均包括至少一個自第二側延伸至該開口區域中而未延伸至第一側之第二膜支撐結構,其中該至少一個第二膜支撐結構中之每一者與該複數個框架中之其他框架的其他第二膜支撐結構在第二膜支撐平面內共平面,該第二膜支撐平面與該第一膜支撐平面間隔開且垂直於該框架平面。 5.如申請專利範圍第1項之裝置,其中該複數個框架包括至少一個安置於該第一及該第二終端框架中至少一者與該至少一個氫氣選擇性膜之間的進料框架,該至少一個進料框架另外包括:進料框架周長殼,輸入管道,其形成於該進料框架周長殼上且經組態以自該輸入埠接收該混合氣流之至少部分,輸出管道,其形成於該進料框架周長殼上且經組態以接收該混合氣流之該至少部分中保留在該至少一個氫氣選擇性膜之該進料側上的剩餘部分,進料框架開口區域,其安置於該輸入與該輸出管道之間,及至少一個進料框架膜支撐結


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