真空蒸氣處理裝置
申請人· 愛發科股份有限公司 ULVAC, INC. 日本


專利信息

專利名稱 真空蒸氣處理裝置
公告號 200820273
公告日
證書號
申請號 2007/09/11
國際專利分類號
公報卷期 06-09
發明人 永田浩 NAGATA, HIROSHI;中村久三 NAKAMURA, KYUZO;加藤丈夫 KATOU, TAKEO;中塚篤 NAKATSUKA, ATSUSHI;向江一郎 MUKAE, ICHIROU;伊藤正美 ITOU, MASAMI;吉泉良 YOSHIIZUMI, RYOU;新垣良憲 SHINGAKI, YOSHINORI
申請人 愛發科股份有限公司 ULVAC, INC. 日本
代理人 林志剛
優先權 日本 2006-245303 20060911 日本 2006-248964 20060914
參考文獻
審查人員

專利摘要

本發明之課題在於提供一種真空蒸氣處理裝置,其適用於實施下述處理,即在處理室形成金屬蒸發環境,使此金屬蒸氣環境中的金屬附著於被處理物的表面,並且使附著於被處理物表面之金屬原子在其晶粒界內擴散之處理。用以解決課題之手段為,該裝置具備:處理爐11與;配置於此處理爐內之至少1個處理箱4;及以包圍此處理箱之周圍的方式,設置於處理爐內之加熱手段2。設有真空排氣手段,其在將被處理物S與金屬蒸發材料V配置於處理箱內的狀態下,將此處理箱收納至處理爐後,將處理爐及處理箱減壓至預定壓力並加以保持,在減壓下使加熱手段作動,一邊將被處理物昇溫至預定溫度一邊使金屬蒸發材料蒸發,將此所蒸發之金屬原子供給至被處理物表面。


專利範圍

1.一種真空蒸氣處理裝置,其特徵為:具備有:處理爐;配置於此處理爐內之至少1個處理箱;及加熱此處理箱之加熱手段,且設有真空排氣手段,其為在將被處理物與金屬蒸發材料配置於處理箱內的狀態下,,將處理爐及處理箱減壓至預定壓力之手段,在減壓下使加熱手段作動,將被處理物昇溫至預定溫度並使金屬蒸發材料蒸發,將此所蒸發之金屬原子供給至被處理物表面。 2.如申請專利範圍第1項之真空蒸氣處理裝置,其中,前記處理箱為採用下述結構,即,可自由進出前記處理爐內,由上面開口的箱部與可自由裝卸地裝設於此開口之上面的蓋部所構成,伴隨使真空排氣手段作動而減壓前記處理爐,將處理箱內減壓 3.如申請專利範圍第1或2項之真空蒸氣處理裝置,其中,由不會與金屬蒸發材料反應之材料、或至少在表面不會與金屬蒸發材料反應之材料作為內貼膜所形成者來構成前記加熱手段及處理箱。 4.如申請專利範圍第3項之真空蒸氣處理裝置,其中,前記不會與金屬蒸發材料反應之材料為Mo。 5.如申請專利範圍第1至4項中任一項之真空蒸氣處理裝置,其中,前記加熱手段是由包圍處理箱的周圍之隔熱材與配置於其內側之發熱體所構成,此隔熱材是隔著預定的間隔重疊複數片來構成。 6.如申請專利範圍第1至5項中任一項之真空蒸氣處理裝置,其中,具備可在由前記處理箱的底面算起的預定高度位置載置被處理物之載置部,此載置部以配置複數條的線材來構成。 7.如申請專利範圍第1至6項中任一項之真空蒸氣處理裝置,其中,在前記處理箱內,設置有可收納金屬蒸發材料的收納部。 8.如申請專利範圍第7項之真空蒸氣處理裝置,其中,將前記收納部,以包圍被處理物的周圍的方式,設置於處理箱的側壁。 9.如申請專利範圍第7項之真空蒸氣處理裝置,其中,使前記收納部位於配置在前記處理箱內的被處理物相互之間而設置。 10.如申請專利範圍第5至9項中任一項之真空蒸氣處理裝置,其中,前記加熱手段具有複數個連通路,與此連通路相連的氣體通路設置於加熱手段與處理爐的內壁之間,此氣體通路連接於具備風扇與熱交換器之空冷手段。 11.如申請專利範圍第1至10項中任一項之真空蒸氣處理裝置,其中,前記處理物為鐵-硼-稀土類系的燒結磁鐵,前記金屬蒸發材料是由Dy、Tb之至少一種所構成。


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