光阻剝離液



  • 水性光阻剝離液組成物

    公告號:200613543 - ADMS科技股份有限公司 ADMS TECHNOLOGY CO., LTD 韓國

    1.一種水性光阻剝離液組成物,依據該組成物之總重,包括0.3至15重量百分比之一無機鹼性化合物(inorganic alkaline compound);0.1至12重量百分比之一四烷基銨氫氧化物(tetraalkylammonium hydroxide compound);0.1至40重量百分比之

  • 光阻剝離液組成物以及剝離光阻的方法

    公告號:200639594 - 關東化學股份有限公司 KANTO KAGAKU KABUSHIKI KAISHA 日本

    1.一種光阻剝離液組成物,含有炔屬醇化合物及有機磺酸化合物中至少1種、以及多元醇和其衍生物中至少1種。 2.如申請專利範圍第1項之光阻剝離液組成物,更含有氟化合物及第四級氫氧化銨鹽中至少1種。 3.如申請專利範圍第1或2項之光阻剝離液組成物,其中該炔屬醇化合物係2-丁炔-1,4-二醇。 4.如申請專

  • 光阻剝離液及光阻剝離方法

    公告號:200707525 - 巴斯夫股份有限公司 BASF AKTIENGESELLSCHAFT 德國

    2.一種光阻剝離液,包括:一非離子型界面活性劑,其含量範圍為1wt%~30wt%;一金屬腐蝕抑制劑,其含量範圍為0.0001wt%~15wt%;一胺醇類,其含量範圍為0.0001wt%~15wt%;一弱酸類,其含量範圍為0.0001wt%~15wt%;以及一水,其含量範圍為50wt%~90wt%。

  • 含粒子之光阻剝離液及使用它之剝離方法

    公告號:200905420 - 富士軟片股份有限公司 FUJIFILM CORPORATION 日本

    1.一種光阻剝離液,其特徵在於:含有粒子、及由胺化合物與伸烷二醇類所構成族群中所選出之至少一種化合物。 2.如申請專利範圍第1項之光阻剝離液,其中含有胺化合物與伸烷二醇類。 3.如申請專利範圍第1項之光阻剝離液,其中該粒子之一次粒徑為5~1,000 nm。 4.如申請專利範圍第1項之光阻剝離液,其中

  • 藉由奈米過濾連續使用光阻剝離液之系統

    公告號:200921303 - 東亞合成股份有限公司 TOAGOSEI CO., LTD. 日本

    1.一種光阻剝離系統,其特徵為具備光阻剝離液的全部量為100質量%的情況下,以含有80質量%以上的有機化合物之光阻剝離液剝離正型光阻膜之第一步驟,以及將含有光阻成分的剝離液,以細孔徑為2~5nm、劃分分子量為1000~4000之陶瓷過濾器進行錯流過濾(cross flow filtering)之第二

  • 低含水量的光阻剝離液用濃縮液之製造方法

    公告號:201032890 - 神戶天然物化學股份有限公司 KNC LABORATORIES CO., LTD. 日本 JP; 比丘琳克股份有限公司 VISION LINK CORP. 日本 JP

    1.一種製造方法,其係四級氫氧化銨之濃縮液的製造方法,其特徵為混合含水結晶或水溶液形態之四級氫氧化銨與選自由二醇醚類、二醇類、及三醇類所組成群組之水溶性有機溶劑,調製混合液,於減壓下將該混合液進行薄膜蒸餾,餾除餾出物。 2.如申請專利範圍第1項之製造方法,其中四級氫氧化銨為氫氧化四甲銨,且氫氧化四甲

  • 光阻剝離液

    公告號:201039076 - 榮易化學有限公司 桃園縣龍潭鄉民強街31號之16 TW

    1.一種光阻剝離液,用以剝離光阻劑,包括:N-烷基吡咯酮;氫氧化四烷基銨化合物;以及水,其中該N-烷基吡咯酮含量範圍為30至75wt%,該氫氧化四烷基銨化合物含量範圍為0.23至1.00N,水含量範圍為5至70wt%。 2.如申請專利範圍第1項之光阻剝離液,進一步包含至少一醚系化合物,該至少一醚系化

  • 光阻剝離液組成物及使用它之剝離光阻方法

    公告號:201113652 - 東友FINE CHEM股份有限公司 DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD. 南韓 KR

  • 光阻剝離液的供應系統及其供應方法

    公告號:201325738 - 友達光電股份有限公司 AU OPTRONICS CORP. 新竹市新竹科學工業園區力行二路1號 TW

    1.一種光阻剝離液的供應系統,包括:一第一儲存槽,用以儲存並供應一第一光阻剝離廢液;一處理設備,與該第一儲存槽連接,該處理設備接收並處理該第一光阻剝離廢液,以分別輸出一光阻剝離液與一第二光阻剝離廢液;一第二儲存槽,與該處理設備連接,該第二儲存槽用以儲存並輸出來自該處理設備之該光阻剝離液;及一第三儲存

  • 光阻剝離液組成物及其應用

    公告號:201335724 - 奇美實業股份有限公司 CHI MEI CORPORATION 臺南市仁德區三甲里三甲子59之1號 TW

    1.一種光阻剝離液組成物,包含:醇胺類化合物(A);二醇類及/或醇醚類化合物(B);以及碸類及/或亞碸類之有機溶劑(C)。 2.如申請專利範圍第1項所述之光阻剝離液組成物,其中基於該醇胺類化合物(A)之使用量為100重量份,該二醇類及/或該醇醚類化合物(B)之使用量為20重量份至200重量份,且該碸

  • 光阻剝離液組成物

    公告號:201416809 - 松下電器產業股份有限公司 PANASONIC CORPORATION 日本 JP

    1.一種光阻剝離液組成物,其特徵為具有1~9質量%之三級烷醇胺、10~70質量%之極性溶劑、10~40質量%之水、與10~100 ppm之胺基酸。 2.如請求項1之剝離液組成物,其中前述三級烷醇胺為N-甲基二乙醇胺(MDEA)。 3.如請求項1或2中任一項之剝離液組成物,其中前述極性溶劑為二乙二醇單

  • 光阻剝離液之再生方法及再生裝置

    公告號:201427905 - 日本瑞環股份有限公司 NIPPON REFINE CO., LTD. 日本 JP; 松下環境工程有限公司 PANASONIC ENVIRONMENTAL SYSTEMS & ENGINEERING C

    1.一種光阻剝離液之再生方法,其特徵為具有:低沸點分離工程,其係由被使用在光阻的剝離,至少含有溶劑、含有水的低沸點成分、及光阻成分的使用完畢光阻剝離液,使前述含有水的低沸點成分的一部分分離而作為廢液A進行氣化分離且取出;高沸點分離工程,其係將前述低沸點分離工程的分離殘留液進行氣化分離,將前述含有水的

  • 光阻剝離液組成物以及使用該組成物的光阻剝離方法

    公告號:201432395 - 東進世美肯股份有限公司 DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. 南韓 KR

    1.一種光阻剝離液組成物,包含有:10至90wt%的N,N-二甲基丙醯胺;5至80wt%的丙酮縮甘油;以及1至20wt%的有機胺類化合物。 2.如請求項1所述的光阻剝離液組成物,其中該有機胺類化合物包含選自由單乙醇胺、乙二胺、2-(2-胺基乙氧基)乙醇、2-(2-胺基乙胺基)乙醇、1-胺基-2-丙醇

  • 光阻剝離液之調合方法及調合裝置

    公告號:201434757 - 松下電器產業股份有限公司 PANASONIC CORPORATION 日本 JP

    1.一種光阻剝離液之調合方法,其特徵為具有:由含有2種類的溶劑、水、及剝離的光阻成分之被貯留在回收槽的使用完畢光阻剝離廢液,將含有水分的低沸點物、及高沸點物去除,將被貯留在光阻剝離再生液槽的光阻剝離再生液,一面供給再生液導入量份至用以獲得規定量的調合溶劑的溶劑槽一面進行稱量的工程;計測前述溶劑槽中的

  • 光阻剝離液之再生方法及再生裝置

    公告號:201434756 - 日本瑞環股份有限公司 NIPPON REFINE CO., LTD. 日本 JP; 松下環境工程有限公司 PANASONIC ENVIRONMENTAL SYSTEMS & ENGINEERING C

    1.一種光阻剝離液之再生方法,其特徵為具有:低沸點分離工程,其係由被使用在光阻的剝離,至少含有溶劑、水、及光阻成分的使用完畢光阻剝離液,將前述水的一部分作為廢液A進行氣化分離且取出;高沸點分離工程,其係將前述低沸點分離工程的分離殘留液進行氣化分離,將含有前述光阻成分的含光阻殘留液、及前述溶劑與前述水