光阻剝離液



  • 光阻剝離液組成物及使用它之剝離光阻方法

    公告號:I519910 - 東友精細化工有限公司 DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD. 南韓 KR

    1.一種光阻剝離液組成物,其係包含(a)鹼性化合物,其係包括選自由以下式1至式3所表示之化合物之一或多者,由以下式4所表示之(b)醯胺化合物,(c)極性溶劑,及由以下式5所表示之(d)多元醇化合物:其中R1、R2、R3、R4、R5及R6各獨立地為氫、經胺基或未經胺基取代的C1~10烷基、C2~10烯

  • 光阻剝離液組成物

    公告號:I497237 - 松下電器產業股份有限公司 PANASONIC CORPORATION 日本 JP

    1.一種光阻剝離液組成物,其特徵為具有1~9質量%之三級烷醇胺、10~70質量%之極性溶劑、10~40質量%之水、與10~100ppm之胺基酸,且前述極性溶劑為二乙二醇單丁基醚與丙二醇之混合溶劑,前述胺基酸為甘胺酸。2.如請求項1之剝離液組成物,其中前述三級烷醇胺為N-甲基二乙醇胺(MDEA)。

  • 光阻剝離液

    公告號:I494713 - 松下電器產業股份有限公司 PANASONIC CORPORATION 日本 JP

    1.一種光阻剝離液,包含三級烷醇胺、極性溶劑、水、二級胺、及糖醇,該二級胺為N-甲基乙醇胺,含有1.4~5質量%,該三級烷醇胺為2~9質量%。2.如申請專利範圍第1項所述之光阻剝離液,其中該糖醇為山梨糖醇。3.如申請專利範圍第1項所述之光阻剝離液,其中該三級烷醇胺為N-甲基二乙醇胺,該極性溶

  • 光阻剝離液

    公告號:I494712 - 松下電器產業股份有限公司 PANASONIC CORPORATION 日本 JP

    1.一種光阻剝離液,包含三級烷醇胺、極性溶劑、水、環胺、及糖醇,該環胺包含哌嗪(piperazine)、羥乙基哌嗪、高哌嗪(homopiperazine)中之至少一種且該環胺為0.5~5質量%,該三級烷醇胺為2~9質量%。2.如申請專利範圍第1項所述之光阻剝離液,其中該極性溶劑為50~80質量%

  • 光阻剝離液

    公告號:I457725 - 榮易化學有限公司 桃園縣龍潭鄉民強街31號之16 TW

    1.一種光阻剝離液,用以剝離光阻劑,包括:N-烷基吡咯酮;氫氧化四烷基銨化合物;以及水,其中該N-烷基吡咯酮含量範圍為30至75wt%,該氫氧化四烷基銨化合物含量範圍為5.10至14.70wt%,水含量範圍為5至70wt%。2.如申請專利範圍第1項之光阻剝離液,進一步包含至少一金屬腐蝕抑制劑。

  • 低含水量的光阻剝離液用濃縮液之製造方法

    公告號:I428170 - 神戶天然物化學股份有限公司 KNC LABORATORIES CO., LTD. 日本 JP

    1.一種製造方法,其係氫氧化四級銨之濃縮液的製造方法,其特徵為混合含水結晶或水溶液形態之氫氧化四級銨與選自由二醇醚類、二醇類、及三醇類所組成群組之水溶性有機溶劑,調製混合液,於減壓下將該混合液進行薄膜蒸餾,餾除餾出物。2.如申請專利範圍第1項之製造方法,其中氫氧化四級銨為氫氧化四甲銨,且氫氧化四

  • 含粒子之光阻剝離液及使用它之剝離方法

    公告號:I422996 - 富士軟片股份有限公司 FUJIFILM CORPORATION 日本 JP

    1.一種光阻剝離液,其特徵在於:含有粒子、及由胺化合物與伸烷二醇類所構成族群中所選出之至少一種化合物,其中相對於光阻剝離液,該粒子之濃度為0.1~20重量%,其中相對於光阻剝離液,該胺化合物與伸烷二醇類之總量為10~90重量%。2.如申請專利範圍第1項之光阻剝離液,其中含有胺化合物與伸烷二醇類。

  • 水系光阻剝離液管理裝置及水系光阻剝離液管理方法

    公告號:I312105 - 平間理化研究所股份有限公司 HIRAMA LABORATORIES CO., LTD. 日本 長瀨產業股份有限公司 NAGASE & CO., LTD. 日本 長瀨CMS科學技術股份有限公司 NAGA

    1.一種水系光阻剝離液管理方法,乃屬於在調整槽內用來管理在光阻剝離設備所使用的水系光阻剝離液的水系光阻剝離液管理方法,其特徵為具備有: 用來測定前述調整槽內的水系光阻剝離液中的劣化成份的濃度的劣化成份濃度測定步驟、和 將水系光阻剝離原液、水系光阻剝離再生液、純水以及事先調合的水系光阻剝離新液中的至少

  • 水性光阻剝離液組成物

    公告號:I311585 - 三養EMS公司 SAMYANG EMS CO., LTD. 南韓

  • 光阻剝離液及光阻剝離方法

    公告號:I260043 - 巴斯夫股份有限公司 BASF AKTIENGESELLSCHAFT 德國

    1.一種光阻剝離液,包括: 一非離子型界面活性劑,其含量範圍為1wt%-30wt%; 一金屬腐蝕抑制劑,其含量範圍為0.0001wt%-15wt%; 一胺醇類,其含量範圍為0.0001wt%-15wt%; 一弱酸類,其含量範圍為0.0001wt%-15wt%;以及 一水,其含量範圍為50wt%-90

  • 非水系光阻剝離液管理裝置及非水系光阻剝離液管理方法

    公告號:I224243 - 平間理化研究所股份有限公司 HIRAMA LABORATORIES CO., LTD. 日本 長瀨產業股份有限公司 NAGASE & CO., LTD. 日本 長瀨CMS科學技術股份有限公司 NAGA

    1.一種非水系光阻剝離液管理裝置,其為於調整槽內管理光阻剝離設備所使用的的非水系光阻剝離液的非水系光阻剝離液管理裝置;其特徵為具備:測定上述調整槽內非水系光阻剝離液中劣化成分濃度的劣化成分濃度的測定方法;及供給上述調整槽非水系光阻剝離原液、非水系光阻剝離再生液、或預先調合的非水系光阻剝離新液中之至少

  • 光阻剝離液之再生回收方法及再生回收裝置

    公告號:575798 - 林純藥工業股份有限公司 日本 木村化工機股份有限公司 日本

    1.一種光阻剝離液之再生回收方法,其中係使用含有單乙醇胺為主成份之一的光阻剝離,剝離去除光阻後,再生回收使用過之光阻剝離液之方法,其特徵係具備: 添加氫氧化鹼於使用過光阻剝離液後,以使用過光阻剝離液中酸性氣體成份做為鹽進行固定之鹼添加步驟,及 以酸性氣體成份做為鹽進行固定後之使用過光阻剝離液藉由蒸餾

  • 足以有效去除蝕刻殘留物又不傷害易腐蝕金屬層之光阻剝離液組成物及使用此組成物之製程

    公告號:526396 - 日本電氣股份有限公司 日本 東京應化工業股份有限公司 日本

    1.一種光阻剝離液之組成,其中至少包括鹽類、水溶性有機溶劑、水及抗腐蝕性化合物, 其特徵為: 該鹽類是由至少一種不含金屬離子之鹼類與氫氟酸反應生成;且 該抗腐蝕化合物是一種苯并三氮唑衍生物,其分子式如下: 上式中,R1及R2各自代表一個包含1至3個碳原子之羥烷基(hydroxyalkyl group

  • 光阻剝離液

    公告號:201533549 - 松下知識產權經營股份有限公司 PANASONIC INTELLECTUAL PROPERTY MANAGEMENT CO., LTD. 日本 JP

    1.一種光阻剝離液,其特徵在於:含有三級烷醇胺、極性溶劑、水、強鹼劑、還原劑,pH在12以上。 2.根據申請專利範圍第1項之光阻剝離液,其中,前述還原劑含有單寧酸。 3.根據申請專利範圍第1項之光阻剝離液,其中,前述強鹼劑,係含有從四甲基氫氧化銨、三甲基-2-羥乙基氫氧化銨、二甲基雙(2-羥乙基)氫

  • 光阻剝離液過濾器之洗淨液、洗淨裝置及洗淨方法

    公告號:201513922 - 松下電器產業股份有限公司 PANASONIC CORPORATION 日本 JP

    1.一種光阻剝離液過濾器之洗淨方法,具有:會合工序,會合被洗淨過濾器卡匣到洗淨液;冷卻工序,冷卻前述洗淨液;背離工序,背離前述洗淨液與前述被洗淨過濾器卡匣;以及漂洗工序,以漂洗液洗淨前述被洗淨過濾器卡匣。 2.如申請專利範圍第1項所述之光阻剝離液過濾器之洗淨方法,其中,其具有在前述會合工序後,攪拌前