光束擴散模組以及光束產生系統 BEAM DIFFUSING MODULE AND BEAM GENERATING SYSTEM
申請人· 財團法人工業技術研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE 新竹縣竹東鎮中興路4段195號 TW


專利信息

專利名稱 光束擴散模組以及光束產生系統
公告號 I529020
公告日 2016/04/11
證書號 I529020
申請號 2013/12/02
國際專利分類號
公報卷期 43-11
發明人 林于中 LIN, YU CHUNG; 李閔凱 LEE, MIN KAI; 劉松河 LIU, SUNG HO
申請人 財團法人工業技術研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE 新竹縣竹東鎮中興路4段195號 TW
代理人 詹銘文; 葉璟宗
優先權
參考文獻 TWI354114; TWI371803; JP4508743B2; JP2012-230153A; US6635932B2
審查人員 蔣國珍

專利摘要

一種光束擴散模組,包括入光端、出光端、第一反射板以及第二反射板。第一反射板與第二反射板配置於雷射光束的傳遞路徑上。第一反射板與第二反射板的至少其中一者具有多個反射微結構。這些反射微結構沿著從入光端朝向出光端的第二方向排列。至少部分雷射光束由入光端入射光束擴散模組,並經由第一反射板與第二反射板多次反射後,再從出光端射出,以使出射光束擴散模組的雷射光束的光束參數乘積比值在第一方向上重新分佈。此外,一種光束系統亦被提出。


專利範圍

1.一種光束擴散模組,適於改變一雷射光束在一第一方向的光束參數乘積比值,該光束擴散模組包括:一入光端;一出光端,該雷射光束依序通過該入光端及該出光端;一第一反射板,具有一第一反射面,該第一反射板配置於該雷射光束的傳遞路徑上,且從該入光端往該出光端延伸;以及一第二反射板,具有一第二反射面,該第二反射板配置於該雷射光束的傳遞路徑上,且從該入光端往該出光端延伸,其中該第一反射面與該第二反射面彼此相對設置,該第一反射板的該第一反射面與該第二反射板的該第二反射面至少其中一者具有多個反射微結構,該些反射微結構沿著從該入光端朝向該出光端的一第二方向排列,至少部分該雷射光束由該入光端入射該光束擴散模組,再從該出光端射出,以使出射該光束擴散模組的該雷射光束的光束參數乘積比值在該第一方向上重新分佈;其中該光束擴散模組符合θm<(N+M)K/2<180,其中N為該第一反射面對該雷射光束的發散角角度、M為該第二反射面對該雷射光束的發散角角度、K為該雷射光束經由該第一反射面與該第二反射面的反射次數,θm為該雷射光束的原發散角度。 2.如申請專利範圍第1項所述的光束擴散模組,其中自該光束擴散模組出射的該雷射光束在該第一方向上的光束參數乘積比值相對於在一第三方向上的光束參數乘積比值的比值大於或等於5,且該第三方向實質上垂直於該第一方向與該第二方向。 3.如申請專利範圍第2項所述的光束擴散模組,其中該第一反射板與該第二反射板沿一第四方向排列,且該雷射光束入射該光束擴散模組的方向與該第四方向具有一夾角。 4.如申請專利範圍第3項所述的光束擴散模組,其中該第二方向、該第三方向與該第四方向三者之間實質上彼此垂直。 5.如申請專利範圍第3項所述的光束擴散模組,其中沿著該第二方向且垂直於該第三方向的方向切開該些反射微結構所得的截線包括多個凹陷的曲線,且沿著該第三方向且垂直於該第二方向的方向切開各該反射微結構所得的截線為一直線。 6.如申請專利範圍第1項所述的光束擴散模組,其中各該反射微結構具有一發散角,且各該反射微結構的各該發散角落在0.1度至5度的範圍內。 7.如申請專利範圍第6項所述的光束擴散模組,其中至少部份該些反射微結構的該些發散角的角度彼此不同,且具有不同發散角角度的該些反射微結構沿著該第二方向隨機排列。 8.如申請專利範圍第7項所述的光束擴散模組,其中各該些反射微結構的節距為50±10微米。 9


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