致動器和轉換器
申請人· ASML荷蘭公司 荷蘭


專利信息

專利名稱 致動器和轉換器
公告號 526630
公告日 2003/04/01
證書號 174438
申請號 1999/10/21
國際專利分類號
公報卷期 30-10
發明人 艾瑞克羅勒夫洛普斯托拉
申請人 ASML荷蘭公司 荷蘭
代理人 陳長文
優先權
參考文獻
審查人員

專利摘要

一種致動器,包含一磁鐵軛(10a,10b)以及一可相對該磁鐵軛移動之承載構件(20)。該磁鐵軛(10a,10b)具有至少一個永久磁鐵(14),該承載構件(20)乃是置於由此磁鐵所產生的磁場之中。該承載構件(20)具有一可在該承載構件(20)與該磁鐵軛(10a,10b)之間,產生相對偏轉力之輔助磁鐵構件(28)。該偏轉另可以用來抵消施於該裝置之重量,如此它可作為承載非常大之順從。該承載構件(20)也包含一線圈(26)。將電流通過該線圈(26)會產生可用以更進一步地控制該致動器之勞倫斯(Lorentz)力;另一種作法,藉著將該因承載構件(20)與磁鐵軛(10a,10b)之相對移動而產生於線圈中之電磁力(EMF)予以感知,該裝置可用作為速度轉換器。


專利範圍

1.一種微影投射裝置,包含: .一用以供應投射輻射線之輻射系統; .一帶有光罩保持器以抓住光罩之光罩桌; .一帶有基板保持器以抓住基板之基板桌; .一用以將光罩的已輻射部份映至基板目標部份之投射系統; .一裝置,包含一具有至少一主磁鐵(14)之第一構件(10a),以及一具有至少一用以載電子電流的電流元件(26)之第二構件(20),用以與該主磁鐵(14)交互作用; 其特徵在於,該包含第一構件及第二構件之裝置至少連接至該光罩桌與該基板桌二者之一及該第二構件(20)另外包含一輔助磁鐵構件(28),該構件與該主磁鐵之磁場交互作用,以在該第一(10a)與第二(20)構件間,產生偏轉力。 2.如申請專利範圍第1項之微影投射裝置,其特徵在於該第一與第二(20)構件實質上呈平面。 3.如申請專利範圍第1項之微影投射裝置,其特徵在於該第一與第二(20)構件實質上呈圓柱形或筒形。 4.如申請專利範圍第1,2或3項之微影投射裝置,其特徵在於該主磁鐵(14)磁化的方向實質上垂直於該偏轉力。 5.如申請專利範圍第1,2或3項之微影投射裝置,其特徵在於該主磁鐵(14)磁化的方向實質上平行於該偏轉力。 6.如申請專利範圍第1,2或3項之微影投射裝置,其特徵是,另外包含一第三構件(10b),其包含至少一個另外主磁鐵(14)。 7.如申請專利範圍第1,2或3項之微影投射裝置,其特徵在於該電流元件(26)為一線圈。 8.如申請專利範圍第7項之微影投射裝置,其特徵在於該輔助磁鐵構件(28)置於實質上位於兩半節該線圈(26)間中央的平面上。 9.如申請專利範圍第1項之微影投射裝置,其特徵在於該裝置的有效剛度之大小是200牛頓/米或更少。 10.如申請專利範圍第1項之微影投射裝置,其特徵在於,有一個致動器,其中有電流通過該電流元件(26),在該第一(10a)與第二(20)構件間,感應出可控制的相對力。 11.如申請專利範圍第1項之微影投射裝置,其特徵在於,有一個轉換器,其中該第一(10a)與第二(20)構件的速度差異,可以經由感應於該電流元件(26)中之電磁力(EMF)來予以感知。 12.如申請專利範圍第1項之微影投射裝置,包含兩個彼此緊接在一起之第二構件(20),其配置成,在使用時,在每個第二構件(20)中,會產生出相反的寄生力矩,藉以相抵消。 13.如申請專利範圍第1項之微影投射裝置,其特徵在於該偏轉力


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